अल्युमिना सिरेमिक वेफर चक्स

सेमिकोरेक्स ॲल्युमिना सिरॅमिक वेफर चक्सचे बहु-सच्छिद्र स्वरूप उच्च विशिष्ट पृष्ठभागाचे क्षेत्रफळ प्रदान करते, याचा अर्थ लक्ष्य ऑब्जेक्टसह परस्परसंवादासाठी अधिक पृष्ठभाग उपलब्ध आहे. उच्च सच्छिद्रता सुधारित शोषकतेमध्ये योगदान देते, ज्यामुळे पीसताना सुरक्षित आणि एकसमान वेफर होल्डिंग करता येते. उच्च-गुणवत्तेचे, दोष-मुक्त वेफर पृष्ठभाग मिळविण्यासाठी ही एकसमानता आवश्यक आहे, जी अर्धसंवाहक फॅब्रिकेशनमध्ये मुख्य आवश्यकता आहे.

एल्युमिना सिरॅमिक वेफर चक्स चांगली थर्मल चालकता प्रदर्शित करतात, जी ग्राइंडिंग प्रक्रियेदरम्यान उष्णता प्रभावीपणे नष्ट करण्यासाठी आवश्यक आहे. हे उष्णता व्यवस्थापन चक आणि वर्कपीस दोन्हीचे नुकसान टाळते, वेफर फॅब्रिकेशनमध्ये उच्च अचूकता सुनिश्चित करते. शिवाय, ॲल्युमिना सिरॅमिक वेफर चक्सची विकृती किंवा संरचनात्मक अखंडता न गमावता उच्च तापमानाचा सामना करण्याची क्षमता त्यांना सेमीकंडक्टर प्रक्रिया उपकरणे सारख्या अत्यंत परिस्थितीत काम करणाऱ्या अनुप्रयोगांसाठी योग्य बनवते.

अल्युमिना सिरॅमिक वेफर चक्सचे जड स्वरूप विविध प्रकारच्या रसायनांपासून गंजण्यास तीव्र प्रतिकार देते. संक्षारक पदार्थांचा हा प्रतिकार केवळ चकची अखंडता राखण्यासाठीच नाही तर प्रक्रियेदरम्यान वेफर्सचे दूषित होण्यापासून रोखण्यासाठी देखील महत्त्वपूर्ण आहे. रासायनिक स्थिरता हे सुनिश्चित करते की ॲल्युमिना सिरॅमिक वेफर चक्स प्रक्रिया रसायनांवर किंवा प्रक्रिया केलेल्या सामग्रीवर प्रतिक्रिया देत नाहीत, जे सेमीकंडक्टर उत्पादन आणि इतर संवेदनशील अनुप्रयोगांमध्ये सर्वोपरि आहे.