चीन CVD भट्टी उत्पादक, पुरवठादार, कारखाना

रासायनिक वाष्प संचय (CVD) प्रक्रियेसाठी CVD भट्टी वापरल्या जातात. रासायनिक वाफ जमा करणे ही एक प्रक्रिया आहे ज्यामध्ये वाष्पयुक्त पूर्ववर्ती वायू आणि गरम पृष्ठभाग यांच्यातील रासायनिक अभिक्रिया वापरून थरावर पातळ फिल्म जमा केली जाते.

CVD फर्नेसमध्ये सामान्यत: व्हॅक्यूम चेंबर, गॅस वितरण प्रणाली, हीटिंग सिस्टम आणि सब्सट्रेट धारक असतात. व्हॅक्यूम चेंबरचा वापर डिपॉझिशनच्या वातावरणातील हवा आणि इतर वायू काढून टाकण्यासाठी केला जातो ज्यामुळे अशुद्धता निक्षेप प्रक्रियेत व्यत्यय आणू नये. गॅस वितरण प्रणाली पूर्ववर्ती वायूंना सब्सट्रेट पृष्ठभागावर वितरीत करते जिथे ते इच्छित पातळ फिल्म तयार करण्यासाठी प्रतिक्रिया देतात. प्रतिक्रिया येण्यासाठी हीटिंग सिस्टम सब्सट्रेटला आवश्यक तापमानापर्यंत गरम करते. सब्सट्रेट धारकाचा वापर डिपॉझिशन प्रक्रियेदरम्यान सब्सट्रेट ठेवण्यासाठी केला जातो.

CVD प्रक्रियेत, पूर्ववर्ती वायू व्हॅक्यूम चेंबरमध्ये दाखल केले जातात आणि तापमानाला गरम केले जातात जेथे ते विघटित होतात आणि गरम झालेल्या सब्सट्रेटवर पातळ फिल्म तयार करण्यासाठी प्रतिक्रिया देतात. इच्छित फिल्म गुणधर्म प्राप्त झाले आहेत याची खात्री करण्यासाठी डिपॉझिशन वातावरणाचे तापमान आणि दबाव काळजीपूर्वक नियंत्रित केला जातो.

एकात्मिक सर्किट्स आणि सोलर सेल यांसारख्या मायक्रोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणांच्या फॅब्रिकेशनसाठी पातळ फिल्म्स जमा करण्यासाठी सेमीकंडक्टर उद्योगात CVD फर्नेसचा मोठ्या प्रमाणावर वापर केला जातो. ते कोटिंग्ज, ऑप्टिकल फायबर आणि सुपरकंडक्टर्स सारख्या प्रगत सामग्रीच्या निर्मितीमध्ये देखील वापरले जातात.