MOCVD हीटर

हे हीटर उच्च-शुद्धतेचे ग्रेफाइट वापरून तयार केले आहे, ज्यामध्ये अशुद्धतेची पातळी 5 भाग प्रति दशलक्ष (ppm) पेक्षा कमी नियंत्रित केली जाते. ग्रेफाइट नंतर रासायनिक वाष्प संचय (CVD) सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) सह लेपित केले जाते, 99.99995% पेक्षा जास्त शुद्धता पातळी वाढवते. सामग्रीचे हे संयोजन हीटरला गुणधर्मांचा एक अद्वितीय संच प्रदान करते जे धातू-सेंद्रिय रासायनिक वाष्प संचय (MOCVD) प्रक्रियेत इष्टतम कामगिरी साध्य करण्यासाठी अपरिहार्य आहे.

Semicorex MOCVD हीटरचे सर्वात उल्लेखनीय वैशिष्ट्य म्हणजे त्याची अपवादात्मक रासायनिक शुद्धता. उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट कोर उच्च-तापमान प्रक्रियेदरम्यान दूषित पदार्थांचा परिचय लक्षणीयरीत्या कमी करतो, अल्ट्रा-क्लीन पातळ फिल्म्सचे संचय सुनिश्चित करतो. CVD SiC कोटिंग ही शुद्धता आणखी वाढवते, रासायनिक आंतरक्रियांविरूद्ध एक मजबूत अडथळा प्रदान करते ज्यामुळे जमा केलेल्या थरांच्या अखंडतेशी तडजोड होऊ शकते. उच्च कार्यक्षमता आणि विश्वासार्हतेसह सेमीकंडक्टर उपकरणे तयार करण्यासाठी ही उच्च पातळीची रासायनिक शुद्धता महत्त्वपूर्ण आहे.

शिवाय, हीटर अत्यंत मजबूत आणि थर्मलदृष्ट्या कार्यक्षम आहे, MOCVD प्रक्रियेच्या वैशिष्ट्यपूर्ण अत्यंत थर्मल परिस्थितीला तोंड देण्यास सक्षम आहे. SiC चे अंतर्निहित गुणधर्म, जसे की त्याचा उच्च वितळण्याचा बिंदू आणि थर्मल चालकता, हीटरच्या उष्णतेचे कार्यक्षमतेने व्यवस्थापन आणि वितरण करण्याच्या क्षमतेस हातभार लावतात. ही थर्मल कार्यक्षमता सब्सट्रेटवर एकसमान गरम करणे सुनिश्चित करते, जे एकसंध फिल्म डिपॉझिशन साध्य करण्यासाठी आणि दोष निर्माण करू शकणारे थर्मल ग्रेडियंट कमी करण्यासाठी आवश्यक आहे.

विद्युत चालकता हे दुसरे क्षेत्र आहे जेथे सेमिकोरेक्स MOCVD हीटर उत्कृष्ट आहे. उच्च शुद्धता असलेला ग्रेफाइट कोर उत्कृष्ट विद्युत चालकता प्रदान करतो, ज्यामुळे हीटर उच्च विद्युत भार सहजतेने हाताळू शकतो. ही क्षमता विशेषतः MOCVD प्रक्रियांमध्ये महत्त्वाची आहे ज्यांना तापमान आणि जमा होण्याच्या दरांवर अचूक नियंत्रण आवश्यक आहे. उच्च भाराखाली स्थिर विद्युत कार्यप्रदर्शन राखण्याची हीटरची क्षमता सातत्यपूर्ण आणि पुनरुत्पादक प्रक्रिया परिस्थिती सुनिश्चित करते, जे उच्च-उत्पन्न अर्धसंवाहक उत्पादनासाठी महत्त्वपूर्ण आहे.

हीटरची सपाट पृष्ठभाग सूक्ष्मपणे सब्सट्रेटकडे उच्च उत्सर्जन प्रदान करण्यासाठी डिझाइन केलेली आहे, ज्यामुळे रेडिएटिव्ह उष्णता हस्तांतरणाची कार्यक्षमता वाढते. हे डिझाइन वैशिष्ट्य हे सुनिश्चित करते की सब्सट्रेटला एकसमान गरम मिळते, जे एकसमान जाडी आणि गुणधर्मांसह उच्च-गुणवत्तेच्या पातळ फिल्म्स मिळविण्यासाठी महत्त्वपूर्ण आहे. उच्च उत्सर्जनशील पृष्ठभाग देखील हीटरच्या एकूण थर्मल कार्यक्षमतेमध्ये योगदान देते, ऊर्जा वापर आणि ऑपरेशनल खर्च कमी करते.

टिकाऊपणाच्या बाबतीत, Semicorex MOCVD हीटर अपवादात्मक गंज प्रतिरोधकता, inoxidizability आणि उच्च यांत्रिक शक्ती देते. CVD SiC कोटिंग एक मजबूत संरक्षणात्मक स्तर प्रदान करते जे सामान्यतः MOCVD प्रक्रियेमध्ये आढळणाऱ्या संक्षारक वायू आणि रसायनांना प्रतिकार करते. ही गंज प्रतिरोधकता हीटरचे ऑपरेशनल आयुष्य वाढवते, देखभाल आणि बदली खर्च कमी करते. हीटरची इनॉक्सिडायबिलिटी हे सुनिश्चित करते की ते स्थिर राहते आणि उच्च तापमानातही ते खराब होत नाही, दीर्घ ऑपरेशनल कालावधीत त्याची कार्यक्षमता आणि संरचनात्मक अखंडता जपते.

शेवटी, हीटरची उच्च यांत्रिक शक्ती हे सुनिश्चित करते की ते थर्मल सायकलिंग आणि सब्सट्रेट हाताळणीशी संबंधित शारीरिक ताणांना तोंड देऊ शकते. ही मजबुती यांत्रिक बिघाड होण्याचा धोका कमी करते, विश्वसनीय आणि सतत ऑपरेशन सुनिश्चित करते.