पीबीएन सामग्रीचे अनुप्रयोग

पीबीएन, किंवा पायरोलाइटिक बोरॉन नायट्राइड हे हेक्सागोनल सिस्टमशी संबंधित आहे आणि एक प्रगत अजैविक नॉन-मेटलिक सामग्री आहे ज्याची शुद्धता 99.999%पर्यंत आहे. यात चांगली घनता, छिद्र नाही, चांगले इन्सुलेशन आणि थर्मल चालकता, उच्च तापमान प्रतिकार, रासायनिक जडत्व, acid सिड प्रतिरोध, अल्कली प्रतिरोध आणि ऑक्सिडेशन प्रतिरोध आहे. त्यात यांत्रिक, औष्णिक आणि विद्युत गुणधर्मांमध्ये स्पष्ट एनिसोट्रोपी आहे. सेमीकंडक्टर क्रिस्टल ग्रोथ (व्हीजीएफ पद्धत, व्हीबी पद्धत, एलईसी पद्धत, एचबी पद्धत, एचबी पद्धत), पॉलीक्रिस्टलिन सिंथेसिस, एमबीई एपिटॅक्सी, ओएलईडी बाष्पीभवन, उच्च-अंत सेमीकंडक्टर उपकरणे, उच्च-पॉवर मायक्रोवेव्ह ट्यूब इ. मध्ये हा एक आदर्श क्रूसीबल आणि मुख्य घटक आहे. उच्च तापमान आणि उच्च व्हॅक्यूम परिस्थितीत, उच्च-शुद्धता बोरॉन हॅलाइड्स आणि अमोनिया आणि इतर कच्चा माल सीव्हीडी रिएक्शन चेंबरमध्ये सादर केला जातो. प्रतिक्रिया क्रॅक केल्यानंतर, ते हळूहळू ग्रेफाइट सारख्या सब्सट्रेट्सच्या पृष्ठभागावर वाढते. पीबीएन थेट क्रूसीबल्स, बोटी आणि ट्यूबसारख्या कंटेनरमध्ये घेतले जाऊ शकते किंवा प्रथम प्लेट्समध्ये जमा केले जाऊ शकते आणि नंतर विविध पीबीएन भागांमध्ये प्रक्रिया केली जाऊ शकते. हे संरक्षणासाठी इतर सब्सट्रेट्सवर देखील लेप केले जाऊ शकते आणि अनुप्रयोग परिस्थितीनुसार उत्पादनांचे तपशील सानुकूलित केले जातात. सामान्य गरम-दाबलेल्या सिंटर्ड बोरॉन नायट्राइडच्या विपरीत, पीबीएन प्रगत रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी) वापरून तयार केले जाते, ज्यात मजबूत तांत्रिक अडथळे आणि उच्च प्रमाणात उद्योग एकाग्रता आहे.

सेमीकंडक्टर क्षेत्रात पीबीएन उत्पादने अपरिवर्तनीय भूमिका निभावतात. डाउनस्ट्रीम applications प्लिकेशन्समध्ये प्रामुख्याने क्रिस्टल ग्रोथ, पॉलीक्रिस्टलिन सिंथेसिस, आण्विक बीम एपिटॅक्सी (एमबीई), ओएलईडी, सेंद्रिय रासायनिक वाष्प जमा (एमओसीव्हीडी), उच्च-एंड सेमीकंडक्टर उपकरणे भाग, एरोस्पेस आणि इतर क्षेत्रांचा समावेश आहे.

1) क्रिस्टल वाढ

कंपाऊंड सेमीकंडक्टर सिंगल क्रिस्टल्स (जसे गॅलियम आर्सेनाइड, इंडियम फॉस्फाइड इ.) च्या वाढीस तापमान, कच्च्या मालाची शुद्धता आणि वाढीच्या कंटेनरची शुद्धता आणि रासायनिक जडत्व यासह अत्यंत कठोर वातावरण आवश्यक आहे. पीबीएन क्रूसिबल सध्या कंपाऊंड सेमीकंडक्टर सिंगल क्रिस्टल ग्रोथसाठी सर्वात आदर्श कंटेनर आहे. कंपाऊंड सेमीकंडक्टर सिंगल क्रिस्टल ग्रोथसाठी मुख्य पद्धती म्हणजे एलईसी पद्धत, एचबी पद्धत, व्हीबी पद्धत आणि व्हीजीएफ पद्धत. संबंधित पीबीएन क्रूसीबल्समध्ये एलईसी क्रूसिबल, व्हीबी क्रूसिबल आणि व्हीजीएफ क्रूसिबलचा समावेश आहे.

2) आण्विक बीम एपिटॅक्सी (एमबीई)

एमबीई आज जगातील आयआयआय-व्ही आणि II-VI सेमीकंडक्टर्सच्या सर्वात महत्वाच्या एपिटॅक्सियल ग्रोथ प्रक्रियेपैकी एक आहे. या प्रकारचे तंत्रज्ञान योग्य सब्सट्रेट्स आणि योग्य परिस्थितीत सब्सट्रेट मटेरियलच्या क्रिस्टल अक्षांसह थरांद्वारे पातळ फिल्म्स थर वाढविण्याची एक पद्धत आहे. पीबीएन क्रूसिबल एमबीई प्रक्रियेतील एक आवश्यक स्त्रोत भट्टी कंटेनर आहे.

3) सेंद्रिय प्रकाश-उत्सर्जक डायोड डिस्प्ले (ओएलईडी)

ओएलईडीला फ्लॅट पॅनेल डिस्प्ले तंत्रज्ञानाची नवीन पिढी मानली जाते कारण स्वत: ची ल्युमिनेसेंस, बॅकलाइट, उच्च कॉन्ट्रास्ट, पातळ जाडी, रुंद दृश्य कोन, वेगवान प्रतिक्रिया वेग, लवचिक पॅनेल, वाइड ऑपरेटिंग तापमान श्रेणी, सोपी रचना आणि प्रक्रियेसाठी वापरली जाऊ शकते. बाष्पीभवन हा ओएलईडी बाष्पीभवन प्रणालीचा मुख्य घटक आहे. त्यापैकी, पीबीएन मार्गदर्शक रिंग आणि क्रूसिबल हे बाष्पीभवन युनिटचे मुख्य घटक आहेत. मार्गदर्शक रिंगला चांगली थर्मल चालकता आणि इन्सुलेशन कामगिरी असणे आवश्यक आहे, जटिल आकारात प्रक्रिया केली जाऊ शकते आणि उच्च तापमानात गॅस विकृत किंवा सोडत नाही. क्रूसिबलमध्ये अल्ट्रा-उच्च शुद्धता, उच्च तापमान प्रतिकार, विद्युत इन्सुलेशन आणि स्त्रोत सामग्रीसह ओले नसणे आवश्यक आहे. व्यापक वापरासाठी पीबीएन ही एक आदर्श सामग्री आहे.

4) हाय-एंड सेमीकंडक्टर उपकरणे

सेमीकंडक्टर चिप्स सूक्ष्मकरण आणि उच्च सामर्थ्याकडे विकसित होत असताना, सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणे आणि सिस्टमची आवश्यकता जास्त आणि उच्च होत चालली आहे. पीबीएन मटेरियल उत्पादने त्यांच्या अति-उच्च शुद्धता, उच्च थर्मल चालकता, विद्युत इन्सुलेशन, गंज प्रतिरोध, ऑक्सिडेशन प्रतिरोध आणि कामगिरीच्या विविध एनिसोट्रोपीमुळे उच्च-अंत उपकरणांच्या कोर घटकांमध्ये मोठ्या प्रमाणात वापरली जातात.

सेमीकोरेक्स उच्च-गुणवत्तेची ऑफर देतेपीबीएन उत्पादने? आपल्याकडे काही चौकशी असल्यास किंवा अतिरिक्त तपशीलांची आवश्यकता असल्यास, कृपया आमच्याशी संपर्क साधण्यास अजिबात संकोच करू नका.

फोन # +86-13567891907 वर संपर्क साधा

ईमेल: sales@semicorex.com