MOCVD हे प्रमुख उपकरण आहे

एमओसीव्हीडी उपकरणे ही सेमीकंडक्टर उद्योगाच्या उत्पादन प्रक्रियेतील प्रमुख उपकरणे आहेत, परंतु सेमीकंडक्टर उद्योग साखळीतील उपकरणांच्या गुंतवणुकीचा मोठा भाग (तीन मुख्य प्रक्रिया आणि उपकरणे: लिथोग्राफी, एचिंग, पातळ फिल्म डिपॉझिशन), एलईडी उत्पादन लाइन गुंतवणूक, एमओसीव्हीडी गुंतवणूकीची रक्कम 50% पर्यंत असू शकते. सीव्हीडी उपकरणांमध्ये, सब्सट्रेट थेट धातूवर ठेवता येत नाही किंवा एपिटॅक्सियल डिपॉझिशनसाठी बेसच्या वर ठेवता येत नाही, कारण त्यात गॅस प्रवाहाची दिशा (क्षैतिज, अनुलंब), तापमान, दाब, स्थिरीकरण यासारख्या विविध घटकांचा प्रभाव असतो. , दूषित पदार्थ टाकणे. म्हणून, बेस वापरला जातो आणि सब्सट्रेट डिस्कवर ठेवला जातो आणि नंतर CVD तंत्रज्ञानाचा वापर करून सब्सट्रेटच्या शीर्षस्थानी एपिटॅक्सियल डिपॉझिशन केले जाते. हा आधार SiC-कोटेड ग्रेफाइट आहेsusceptor(ज्याला ए. असेही म्हटले जाऊ शकतेवाहक), आणि त्याची रचना खालील आकृतीमध्ये दर्शविली आहे.