MOCVD प्रणाली म्हणजे काय?

MOCVD, ज्याला मेटल-ऑरगॅनिक केमिकल व्हेपर डिपॉझिशन (MOCVD) म्हणून ओळखले जाते, हे सब्सट्रेटवर पातळ सेमीकंडक्टर फिल्म्स वाढवण्याचे तंत्र आहे. MOCVD सह, विशिष्ट ऑप्टिकल आणि इलेक्ट्रिकल गुणधर्मांसह सामग्री तयार करण्यासाठी, प्रत्येक नियंत्रित जाडीसह, बर्‍याच नॅनो-लेअर्स उत्कृष्ट अचूकतेसह जमा केले जाऊ शकतात.

MOCVD सिस्टीम ही एक प्रकारची रासायनिक वाफ डिपॉझिशन (CVD) सिस्टीम आहे जी मेटल ऑरगॅनिक प्रिकर्सर्सचा वापर करून पातळ फिल्म्स सब्सट्रेटवर जमा करते. प्रणालीमध्ये अणुभट्टीचे जहाज, गॅस वितरण प्रणाली, सब्सट्रेट धारक आणि तापमान नियंत्रण प्रणाली असते. वाहक वायूसह अणुभट्टीच्या भांड्यात धातूचे सेंद्रिय पूर्ववर्ती आणले जाते आणि उच्च-गुणवत्तेच्या पातळ फिल्मची वाढ सुनिश्चित करण्यासाठी तापमान काळजीपूर्वक नियंत्रित केले जाते.

इतर डिपॉझिशन तंत्रांपेक्षा MOCVD च्या वापराचे अनेक फायदे आहेत. एक फायदा असा आहे की ते पातळ फिल्म्सच्या जाडीवर आणि रचनेवर अचूक नियंत्रणासह जटिल सामग्री जमा करण्यास अनुमती देते. उच्च-कार्यक्षमता असलेल्या सेमीकंडक्टर उपकरणांच्या उत्पादनासाठी हे विशेषतः महत्वाचे आहे, जेथे पातळ चित्रपटांच्या भौतिक गुणधर्मांचा डिव्हाइसच्या कार्यक्षमतेवर महत्त्वपूर्ण प्रभाव पडू शकतो.

MOCVD चा आणखी एक फायदा असा आहे की याचा वापर सिलिकॉन, नीलम आणि गॅलियम आर्सेनाइडसह विविध थरांवर पातळ फिल्म्स जमा करण्यासाठी केला जाऊ शकतो. ही लवचिकता कॉम्प्युटर चिप्सपासून ते LEDs पर्यंत सेमीकंडक्टर उपकरणांच्या विस्तृत श्रेणीच्या निर्मितीमध्ये एक आवश्यक प्रक्रिया बनवते.

MOCVD सिस्टीम सेमीकंडक्टर उद्योगात मोठ्या प्रमाणावर वापरल्या जातात आणि अनेक प्रगत तंत्रज्ञानाच्या विकासामध्ये त्यांचा महत्त्वाचा वाटा आहे. उदाहरणार्थ, MOCVD चा वापर प्रकाश आणि प्रदर्शन अनुप्रयोगांसाठी उच्च-कार्यक्षमता LEDs, तसेच फोटोव्होल्टेइक अनुप्रयोगांसाठी उच्च-कार्यक्षमता सौर सेल तयार करण्यासाठी केला गेला आहे.