पीबीएन इलेक्ट्रोस्टॅटिक चक

च्या भौतिक गुणधर्मपीबीएनइलेक्ट्रोस्टॅटिक चक

उच्च-तापमान प्रतिरोध आणि डायलेक्ट्रिक सामर्थ्य

दपीबीएनइलेक्ट्रोस्टॅटिक चक त्याच्या अपवादात्मक उच्च-तापमान प्रतिरोधासाठी प्रसिद्ध आहे, एक वैशिष्ट्य जे सेमीकंडक्टर उत्पादन प्रक्रियेत महत्त्वपूर्ण आहे. पायरोलिटिक बोरॉन नायट्राइड (PBN), चकच्या बांधकामात वापरलेली सामग्री, सामान्यतः वापरल्या जाणाऱ्या सिरॅमिक्सपेक्षा जास्त प्रतिरोधकता दर्शवते, जी जॉनसेन-राहबेक (J-R) चक फोर्स 1050°C तापमानापर्यंत राखण्यासाठी महत्त्वपूर्ण आहे. ही उच्च प्रतिरोधकता, त्याच्या उच्च डायलेक्ट्रिक सामर्थ्यासह, हे सुनिश्चित करते की तीव्र उष्णतेमध्येही विद्युत खंडित होण्यापासून प्रभावीपणे प्रतिबंध केला जातो, ज्यामुळे चकची ऑपरेशनल विश्वासार्हता वाढते.

थर्मल एकरूपता आणि शॉक प्रतिरोध

पीबीएन ची षटकोनी जाळीची रचना, 1500°C पेक्षा जास्त तापमानात रासायनिक बाष्प साठा करून तयार केली जाते, तिच्या उत्कृष्ट थर्मल एकरूपता आणि शॉक प्रतिरोधनात योगदान देते. आत उच्च घनता गरम घटकपीबीएनइलेक्ट्रोस्टॅटिक चक 600-800°C तापमानात 1.1-1.5% च्या चांगल्या एकसमानतेसह एक सुसंगत वेफर थर्मल प्रोफाइल प्राप्त करण्यास सक्षम करते. शिवाय, PBN-आधारित चक उल्लेखनीय थर्मल शॉक प्रतिरोध आणि कमी थर्मल वस्तुमान प्रदर्शित करते, ज्यामुळे क्रॅकिंग किंवा डेलेमिनेशनच्या जोखमीशिवाय ते 23°C/सेकंद वेगाने 600°C पर्यंत पोहोचू शकते.

सानुकूल करण्यायोग्य मल्टी-झोन हीटिंग

पीबीएन इलेक्ट्रोस्टॅटिक चक अत्यंत सानुकूल करण्यायोग्य आहे, ज्यामध्ये मल्टी-झोन हीटिंग क्षमता आहे जी कमाल तापमान नियंत्रणास अनुमती देते. कस्टमायझेशनची ही पातळी हे सुनिश्चित करते की प्रत्येक चक वैयक्तिक ग्राहकांच्या विशिष्ट आवश्यकता पूर्ण करण्यासाठी तयार केला जाऊ शकतो, विविध सेमीकंडक्टर प्रक्रिया अनुप्रयोगांसाठी एक लवचिक समाधान प्रदान करतो.

चे अर्जपीबीएनइलेक्ट्रोस्टॅटिक चक

आयन रोपण आणि वेफर हाताळणी

आयन इम्प्लांटेशन प्रक्रियेमध्ये पीबीएन इलेक्ट्रोस्टॅटिक चक हे पसंतीचे वेफर-हँडलिंग उपकरण आहे. 1000°C पेक्षा जास्त तापमानात वेफर्स ठेवण्याची त्याची क्षमता हे बाजारातील सर्वात बहुमुखी इलेक्ट्रोस्टॅटिक चक बनवते. हे अष्टपैलुत्व उच्च-घनता, मल्टीझोन हीटिंग एलिमेंट्समुळे, अत्यंत घट्ट तापमान श्रेणींमध्ये वेफर्स राखण्याच्या क्षमतेमुळे आणखी वाढवले ​​जाते.

सिलिकॉन कार्बाइड आयन रोपण

SiC आयन इम्प्लांटेशनच्या विशिष्ट अनुप्रयोगामध्ये, दपीबीएनइलेक्ट्रोस्टॅटिक चक वेफर हीटिंग आणि हाताळणीच्या आव्हानांवर एक व्यवहार्य उपाय देते. त्याची दुहेरी-कार्य क्षमता, ज्यामध्ये उच्च चक फोर्स, उच्च तापविण्याची शक्ती, चांगली थर्मल एकसमानता आणि जलद प्रतिसाद समाविष्ट आहे, ते SiC आयन इम्प्लांटेशनच्या जटिल गरजा पूर्ण करण्यासाठी एक आदर्श पर्याय बनवतात.

सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग

पीबीएन इलेक्ट्रोस्टॅटिक चक सेमीकंडक्टर उत्पादनात महत्त्वपूर्ण भूमिका बजावते, जेथे अचूक वेफर हाताळणी आणि तापमान नियंत्रण आवश्यक आहे. त्याची उच्च थर्मल शॉक प्रतिरोध आणि जलद तापमान रॅम्पिंग क्षमता हे प्रगत सेमीकंडक्टर प्रक्रियेसाठी योग्य बनवते जे कठोर तापमान व्यवस्थापन आणि जलद थर्मल सायकलिंगची मागणी करतात.