फोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट कंस

सेमीकोरेक्सफोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट कंसस्लॉटिंग, वेल्डिंग आणि फ्रॉस्टेड फिनिशिंगसह प्रक्रियांद्वारे उच्च-शुद्धता असलेल्या फोटोव्होल्टेइक-स्तरीय क्वार्ट्ज सामग्रीपासून अचूक-उत्पादित केले जातात. ते सामान्यत: क्वार्ट्ज बोटी आणि त्यांचे लोड केलेले वेफर्स क्वार्ट्ज फर्नेस ट्यूबमध्ये स्थिरपणे आणि सुरक्षितपणे ठेवण्यासाठी स्वयंचलित लोडिंग उपकरणांसह वापरले जातात, ज्यामुळे प्रसार, ऑक्सिडेशन, ॲनिलिंग आणि LPCVD आणि PECVD सह मोठ्या प्रमाणात उच्च-तापमान वेफर प्रक्रिया सक्षम होते.

सेमिकोरेक्स फोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट ब्रॅकेटचे फायदे

1. उत्कृष्ट थर्मल प्रतिकार

सेमिकोरेक्स फोटोव्होल्टेइकक्वार्ट्जबोट ब्रॅकेट्स उत्कृष्ट थर्मल प्रतिरोधकतेचा अभिमान बाळगतात आणि उच्च-तापमानाच्या भट्टीत दीर्घकाळ स्थिरपणे कार्य करण्यास सक्षम असतात. सेमीकोरेक्स फोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट ब्रॅकेट 1200 ℃ पर्यंत तापमान असताना त्यांची संरचनात्मक अखंडता राखू शकतात, जे उच्च तापमानामुळे विकृती आणि वितळण्याचा धोका प्रभावीपणे टाळतात.

2. अपवादात्मक थर्मल शॉक प्रतिरोध

सेमीकोरेक्स फोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट ब्रॅकेट्स वेफर थर्मल प्रक्रियेसाठी स्थिर समर्थन देतात कारण त्यांच्या कमी थर्मल विस्तार गुणांकामुळे, जे त्यांना क्रॅक न करता तीव्र तापमान बदल सहन करण्यास अनुमती देते.

3. विश्वसनीय रासायनिक प्रतिकार

सेमीकोरेक्स फोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट ब्रॅकेटमध्ये अम्लीय आणि अल्कधर्मी वायू तसेच वेगवेगळ्या डोपेंट्ससाठी उच्च जडत्व असते आणि ते त्यांच्या विश्वसनीय रासायनिक प्रतिकारामुळे जटिल उच्च-तापमान संक्षारक वातावरणात स्थिरपणे कार्य करू शकतात.

4. अत्यंत स्वच्छता कामगिरी

फोटोव्होल्टेइक-लेव्हल क्वार्ट्जपासून निर्मित, सेमीकोरेक्स फोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट ब्रॅकेटमध्ये उच्च शुद्धता आणि कमी धातूची अशुद्धता सामग्री आहे, अशा प्रकारे थर्मल प्रक्रियेत अशुद्धता सोडण्यापासून वेफर दूषितता प्रभावीपणे काढून टाकते.

फोटोव्होल्टेइक उद्योगातील अनुप्रयोग

1. प्रसार प्रक्रिया

सेमीकोरेक्स फोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट ब्रॅकेट्स फॉस्फरस डिफ्यूजन आणि बोरॉन डिफ्यूजन सारख्या प्रसरण प्रक्रियेतील अनुप्रयोगांसाठी योग्य आहेत आणि PN जंक्शन तयार करण्यासाठी वेफर्स आणि डोपिंग वायू यांच्यातील प्रतिक्रिया सुलभ करू शकतात.

2. ऑक्सीकरण प्रक्रिया

सेमीकोरेक्स फोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट ब्रॅकेट ऑक्सिडेशन प्रक्रिया परिस्थितीच्या वापरासाठी योग्य आहेत, जे वेफरच्या पृष्ठभागावर ऑक्साईड स्तरांच्या एकसमान निर्मितीमध्ये योगदान देऊ शकतात.

3. एनीलिंग प्रक्रिया

सेमीकोरेक्स फोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट ब्रॅकेट वेफर बोट ठेवण्यासाठी आणि उच्च-तापमानाच्या परिस्थितीत वेफरला एनील करण्यासाठी लागू केले जातात, जे वेफर्समधील अंतर्गत ताण दूर करण्यास आणि वेफर्सची क्रिस्टल गुणवत्ता सुधारण्यास मदत करतात.

4. LPCVD आणि PECVD प्रक्रिया

सेमीकोरेक्स फोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट ब्रॅकेट क्वार्ट्ज बोट्स आणि वेफर्सना कमी-दाब किंवा प्लाझ्मा-वर्धित रासायनिक वाफ साचण्याच्या स्थितीत समर्थन देऊ शकतात, ज्यामुळे वेफरच्या पृष्ठभागावर पातळ फिल्म्स तयार होतात.

त्यांच्या उत्कृष्ट कार्यक्षमतेचा फायदा घेऊन, सेमिकोरेक्स फोटोव्होल्टेइक क्वार्ट्ज बोट ब्रॅकेट्स आव्हानात्मक ऑपरेटिंग वातावरणात क्वार्ट्ज बोटी आणि त्यांच्या लोड केलेल्या वेफर्सची स्थिर स्थिती सुनिश्चित करू शकतात. ते क्वार्ट्ज फर्नेस ट्यूबमध्ये उष्णता आणि वायूच्या प्रवाहाच्या समान वितरणामध्ये योगदान देतात आणि थर्मल प्रक्रियेच्या सुसंगततेची हमी देतात, ज्यामुळे सौर पेशींची कार्यक्षमता आणि उत्पादन कार्यक्षमता मोठ्या प्रमाणात सुधारते.