सेमीकंडक्टर क्वार्ट्ज बेल जार

सेमीकोरेक्स सेमीकंडक्टर क्वार्ट्ज बेल जार हे सामान्यत: सिंथेटिक फ्यूज्ड क्वार्ट्जपासून बनवलेले असते, ही सामग्री त्याच्या अपवादात्मक शुद्धता, उच्च-तापमान प्रतिरोधकता आणि कमी थर्मल विस्तार गुणधर्मांसाठी ओळखली जाते. हे सुनिश्चित करते की चेंबर सेमीकंडक्टर फॅब्रिकेशन प्रक्रियेत दूषित किंवा अशुद्धता आणत नाही.

सेमीकंडक्टर क्वार्ट्ज बेल जार हे सामान्यत: दंडगोलाकार किंवा घुमट-आकाराचे असते, अर्धसंवाहक वेफर्स किंवा सब्सट्रेट्स सामावून घेण्यासाठी सपाट किंवा किंचित वक्र आधार असतो. प्रक्रियेदरम्यान चेंबरच्या आत व्हॅक्यूम किंवा नियंत्रित वातावरण राखण्यासाठी त्यात एक अचूक-अभियांत्रिकी, हवाबंद सीलिंग यंत्रणा, जसे की फ्लँज किंवा ओ-रिंग सील आहे.

सेमीकंडक्टर क्वार्ट्ज बेल जार उत्कृष्ट ऑप्टिकल स्पष्टता ऑफर करते, ऑपरेटरना अचूकतेशी तडजोड न करता किंवा हस्तक्षेप न करता चेंबरमधील प्रक्रियांचे दृश्यमानपणे निरीक्षण करण्यास अनुमती देते. क्वार्ट्ज बहुतेक ऍसिड, बेस आणि सेमीकंडक्टर फॅब्रिकेशन प्रक्रियेत वापरल्या जाणाऱ्या सॉल्व्हेंट्सच्या रासायनिक हल्ल्यासाठी अत्यंत प्रतिरोधक आहे. हे चेंबरची अखंडता सुनिश्चित करते आणि सब्सट्रेट्सचे दूषित होण्यापासून प्रतिबंधित करते.

क्वार्ट्जमध्ये उच्च वितळण्याचा बिंदू आणि थर्मल स्थिरता असते, ज्यामुळे सेमीकंडक्टर क्वार्ट्ज बेल जारला विकृती किंवा ऱ्हास न करता डिपॉझिशन किंवा ॲनिलिंग प्रक्रियेदरम्यान आलेल्या भारदस्त तापमानाचा सामना करता येतो.

अर्ज:

डिपॉझिशन: सेमीकंडक्टर क्वार्ट्ज बेल जारचा वापर रासायनिक वाष्प निक्षेप (CVD), भौतिक वाष्प निक्षेप (PVD), आणि अणू स्तर निक्षेप (ALD) यांसारख्या विविध निक्षेप तंत्रांमध्ये सेमीकंडक्टर सब्सट्रेट्सवर सूक्ष्मता आणि एकरूपतेसह सामग्रीच्या पातळ फिल्म्समध्ये जमा करण्यासाठी केला जातो.

एचिंग: ते सेमीकंडक्टर वेफर्समधून सामग्री निवडकपणे काढून टाकण्यासाठी, उच्च अचूकता आणि पुनरावृत्तीक्षमतेसह गुंतागुंतीचे नमुने आणि संरचना तयार करण्यासाठी प्लाझ्मा एचिंग प्रक्रियेत नियुक्त केले जातात.

एनीलिंग: बेल जारचा वापर सेमीकंडक्टर वेफर्सला नियंत्रित थर्मल ट्रीटमेंटच्या अधीन ठेवण्यासाठी, क्रिस्टलायझेशन, डोपेंट सक्रियकरण आणि जमा केलेल्या फिल्म्समध्ये तणावमुक्त करण्यासाठी ॲनिलिंग प्रक्रियेमध्ये केला जातो.