TaC कोटिंग पेडेस्टल सपोर्टर

सेमीकोरेक्स टीएसी कोटिंग पेडेस्टल सपोर्टरची यांत्रिक समर्थनामध्ये महत्त्वाची भूमिका आहे, परंतु प्रक्रिया प्रवाह नियंत्रित करण्यात देखील. अणुभट्टीमध्ये वापरताना ते मुख्य ससेप्टर किंवा वेफर कॅरियरच्या खाली स्थित असते. हे फिरत्या असेंब्लीला स्थितीत लॉक करते, पेडेस्टलमध्ये थर्मल समतोल राखते आणि वेफर झोनच्या खाली निरोगी वायू प्रवाह व्यवस्थापित करते. TaC कोटिंग पेडेस्टल सपोर्टर दोन्ही फंक्शन्ससाठी बनवलेले आहे, ज्यामध्ये रचनात्मकपणे तयार केलेला ग्रेफाइट बेसचा समावेश आहे जो रासायनिक वाफ डिपॉझिशन (CVD) द्वारे टँटलम कार्बाइड (TaC) च्या एकसमान दाट थराने लेपित आहे.

टँटॅलम कार्बाइड हे उपलब्ध रीफ्रॅक्टरी आणि रासायनिकदृष्ट्या जड पदार्थांपैकी एक आहे, ज्याचा वितळण्याचा बिंदू 3800 °C पेक्षा जास्त आहे आणि गंज आणि धूप यांना उत्कृष्ट प्रतिकार आहे. जेव्हा सीव्हीडी उत्पादनासाठी नियुक्त केले जातेTaC कोटिंग्ज, अंतिम परिणाम म्हणजे एक गुळगुळीत, दाट कोटिंग जे ग्रॅफिट सब्सट्रेटचे उच्च तापमान ऑक्सिडेशन, अमोनिया गंज आणि धातू-सेंद्रिय पूर्ववर्ती प्रतिक्रियापासून संरक्षण करते. संक्षारक वायूंच्या दीर्घ संपर्कात किंवा एपिटॅक्सियल प्रक्रियेशी संबंधित अत्यंत थर्मल सायकलिंगमध्ये, पेडेस्टल सपोर्टर स्ट्रक्चरल आणि रासायनिक स्थिरता टिकवून ठेवतो.

एकाधिक गंभीर कार्ये पार पाडताना, CVD TaC कोटिंग संरक्षणात्मक अडथळा म्हणून कार्य करते, ग्रेफाइट कोटिंग आणि सब्सट्रेटमधून कोणतेही संभाव्य कार्बन दूषित होण्यापासून अणुभट्टीच्या वातावरणात प्रवेश करण्यापासून किंवा वेफरवर परिणाम करण्यापासून रोखते. दुसरे, ते रासायनिक जडत्व प्रदान करते, ऑक्सिडायझिंग आणि कमी करणारे वातावरण दोन्हीमध्ये स्वच्छ आणि स्थिर पृष्ठभाग राखते. हे प्रक्रिया वायू आणि अणुभट्टी हार्डवेअरमधील अवांछित प्रतिक्रियांना प्रतिबंधित करते, गॅस-फेज रसायनशास्त्र नियंत्रित राहते आणि फिल्म एकरूपता जतन केली जाते याची खात्री करते.

गॅस फ्लो कंट्रोलमध्ये पेडेस्टल सपोर्टरचे महत्त्व तितकेच लक्षात घेतले पाहिजे. एपिटॅक्सियल डिपॉझिशनच्या प्रक्रियेतील एक महत्त्वाचा पैलू म्हणजे वेफरच्या संपूर्ण पृष्ठभागावर वाहणार्या प्रक्रियेच्या वायूंची एकसमानता सुनिश्चित करणे जेणेकरून थरांची सातत्यपूर्ण वाढ प्राप्त होईल. TaC कोटिंग पेडेस्टल सपोर्टर गॅस फ्लो चॅनेल आणि भूमिती नियंत्रित करण्यासाठी तंतोतंत मशीन केलेले आहे, जे प्रतिक्रिया झोनमध्ये सहजतेने आणि समान रीतीने वायूंवर प्रक्रिया करण्यास मदत करेल. लॅमिनार प्रवाह नियंत्रित करून, अशांतता कमी केली जाते, मृत झोन काढून टाकले जातात आणि अधिक स्थिर वायू वातावरण उद्भवते. हे सर्व उत्कृष्ट फिल्म जाडी एकसारखेपणा आणि उत्कृष्ट एपिटेक्सियल गुणवत्तेमध्ये योगदान देते.

दTaC कोटिंगउच्च थर्मल चालकता आणि उत्सर्जनशीलता प्रदान करते, जे पेडेस्टल सपोर्टरला उष्णता कार्यक्षमतेने चालविण्यास आणि विकिरण करण्यास देखील अनुमती देते. यामुळे स्फटिकाच्या वाढीमध्ये कमी तफावत निर्माण करणाऱ्या कमी तापमान ग्रेडियंटसह ससेप्टर आणि वेफरवर एकंदर तापमानात चांगली एकरूपता येईल. याव्यतिरिक्त, TaC अपवादात्मक ऑक्सिडेशन प्रतिरोध प्रदान करते, जे दीर्घकालीन ऑपरेशन्स दरम्यान उत्सर्जितता सुसंगत राहते, अचूक तापमान कॅलिब्रेशन आणि पुनरावृत्ती करण्यायोग्य प्रक्रिया कार्यप्रदर्शन सुनिश्चित करते.

TaC कोटिंग पेडेस्टल सपोर्टरमध्ये उच्च यांत्रिक टिकाऊपणा आहे, विस्तारित ऑपरेशनल आयुष्यासाठी कर्ज देते. CVD कोटिंग प्रक्रिया, विशेषत:, थर्मल तणावापासून विलग होणे, क्रॅक करणे किंवा सोलणे टाळण्यासाठी TaC थर आणि ग्रेफाइट सब्सट्रेट दरम्यान एक घन आण्विक बंध तयार करते. त्यामुळे हा एक घटक आहे जो ऱ्हास न होता शेकडो उच्च-तापमान चक्रांचा लाभ घेतो.