TaC टॅंटलम कार्बाइड लेपित प्लेट

Semicorex TaC टॅंटलम कार्बाइड कोटेड प्लेट हे सेमीकंडक्टर उत्पादनाच्या कडक मागण्या पूर्ण करण्यासाठी डिझाइन केलेले अत्याधुनिक समाधान आहे, विशेषत: एपिटॅक्सियल (epi) प्रक्रिया टप्प्यात. या विशेष प्लेटमध्ये ग्रेफाइट बेस आहे जो टॅंटलम कार्बाइड (TaC) सह काळजीपूर्वक लेपित आहे, एक लवचिक आणि उच्च-कार्यक्षमता पृष्ठभाग तयार करतो.

TaC टॅंटलम कार्बाइड कोटेड प्लेटचा प्राथमिक उद्देश सेमीकंडक्टर फॅब्रिकेशनमध्ये एक महत्त्वाचा घटक म्हणून काम करणे हा आहे, जेथे ते भट्टीतील उच्च-तापमान प्रक्रियेदरम्यान वेफर्सचे समर्थन आणि संरक्षण करण्यात महत्त्वपूर्ण भूमिका बजावते. TaC कोटिंग केवळ अपवादात्मक उष्णता प्रतिकारच देत नाही तर संक्षारक रासायनिक वातावरणापासून मजबूत संरक्षण देखील प्रदान करते, आव्हानात्मक सेमीकंडक्टर प्रक्रिया परिस्थितीत प्लेटचे दीर्घायुष्य आणि विश्वासार्हता सुनिश्चित करते.

एपि प्रोसेसिंगमध्ये, जेथे सेमीकंडक्टर सामग्रीचे पातळ थर वेफरच्या पृष्ठभागावर जमा केले जातात, TaC टॅंटलम कार्बाइड कोटेड प्लेट एक स्थिर प्लॅटफॉर्म म्हणून काम करते, प्रभावीपणे वेफरला सुरक्षितपणे ठेवते. प्लेटची थर्मल स्थिरता आणि रासायनिक अभिक्रियांचा प्रतिकार यामुळे वेफरची अखंडता टिकवून ठेवण्यासाठी आणि उत्पादनाच्या महत्त्वपूर्ण टप्प्यात दूषित होण्यापासून रोखण्यासाठी एक आदर्श पर्याय बनतो.

TaC टॅंटलम कार्बाइड कोटेड प्लेटच्या प्रमुख वैशिष्ट्यांमध्ये त्याची अपवादात्मक थर्मल चालकता, रासायनिक गंजांना प्रतिकार आणि यांत्रिक टिकाऊपणा यांचा समावेश होतो. हे गुणधर्म एकत्रितपणे प्लेटच्या अत्यंत परिस्थितीला सहन करण्याच्या क्षमतेमध्ये योगदान देतात, ज्यामुळे सेमीकंडक्टर फॅब्रिकेशनच्या गुंतागुंतीच्या आणि नाजूक प्रक्रियेत ते एक अपरिहार्य घटक बनते.

Semicorex TaC टॅंटलम कार्बाइड कोटेड प्लेट सेमीकंडक्टर उत्पादनात epi प्रक्रियेच्या अद्वितीय आव्हानांना संबोधित करणारा प्रगत उपाय आहे. त्याची नाविन्यपूर्ण रचना आणि भौतिक रचना हे अर्धसंवाहक उपकरणांची अचूकता आणि विश्वासार्हता सुनिश्चित करण्यासाठी एक आवश्यक साधन बनवते, शेवटी विविध अनुप्रयोगांमध्ये तंत्रज्ञानाच्या प्रगतीमध्ये योगदान देते.