बॅरल अणुभट्टीमध्ये सीव्हीडी एपिटॅक्सियल डिपॉझिशन

आमचे CVD Epitaxial Deposition in Barrel Reactor हे उच्च-कार्यक्षमतेचे उत्पादन आहे जे अत्यंत वातावरणात विश्वसनीय कार्यप्रदर्शन देण्यासाठी डिझाइन केलेले आहे. त्याची उत्कृष्ट कोटिंग आसंजन, उच्च-तापमान ऑक्सिडेशन प्रतिरोध आणि गंज प्रतिरोधकता हे कठोर वातावरणात वापरण्यासाठी उत्कृष्ट पर्याय बनवते. याव्यतिरिक्त, त्याचे समान थर्मल प्रोफाइल, लॅमिनार गॅस प्रवाह पॅटर्न आणि दूषित होण्यापासून बचाव करणे एपिक्सियल लेयरची उच्च गुणवत्ता सुनिश्चित करते.

Semicorex वर, आम्ही आमच्या ग्राहकांना उच्च-गुणवत्तेची, किफायतशीर उत्पादने पुरवण्यावर लक्ष केंद्रित करतो. बॅरल अणुभट्टीमध्ये आमची CVD एपिटॅक्सियल डिपॉझिशनला किंमतीचा फायदा आहे आणि तो अनेक युरोपियन आणि अमेरिकन बाजारपेठांमध्ये निर्यात केला जातो. सातत्यपूर्ण दर्जेदार उत्पादने आणि अपवादात्मक ग्राहक सेवा वितरीत करून तुमचे दीर्घकालीन भागीदार बनण्याचे आमचे ध्येय आहे.

बॅरल रिएक्टरमध्ये सीव्हीडी एपिटॅक्सियल डिपॉझिशनचे पॅरामीटर्स

बॅरल रिएक्टरमध्ये सीव्हीडी एपिटॅक्सियल डिपॉझिशनची वैशिष्ट्ये

- ग्रेफाइट सब्सट्रेट आणि सिलिकॉन कार्बाइड या दोन्ही थरांची घनता चांगली आहे आणि ते उच्च तापमान आणि संक्षारक कार्य वातावरणात चांगली संरक्षणात्मक भूमिका बजावू शकतात.

- सिंगल क्रिस्टल ग्रोथसाठी वापरल्या जाणार्‍या सिलिकॉन कार्बाइड लेपित ससेप्टरची पृष्ठभागाची सपाटता खूप जास्त असते.

- ग्रेफाइट सब्सट्रेट आणि सिलिकॉन कार्बाइड लेयरमधील थर्मल विस्तार गुणांकातील फरक कमी करा, क्रॅकिंग आणि डेलेमिनेशन टाळण्यासाठी बाँडिंग ताकद प्रभावीपणे सुधारा.

- ग्रेफाइट सब्सट्रेट आणि सिलिकॉन कार्बाइड या दोन्ही थरांमध्ये उच्च थर्मल चालकता आणि उत्कृष्ट उष्णता वितरण गुणधर्म आहेत.

- उच्च हळुवार बिंदू, उच्च तापमान ऑक्सिडेशन प्रतिरोध, गंज प्रतिकार.