वेफर प्रक्रिया हीटर

सेमिकोरेक्स वेफर प्रोसेस हीटर हे सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग (SiC) ग्रेफाइटद्वारे बनवले जाते, उच्च घनतेच्या ग्रेफाइटच्या विशिष्ट ग्रेडवर CVD पद्धतीने कोटिंग लागू केले जाते, त्यामुळे ते अक्रिय वातावरणात 3000 °C पेक्षा जास्त तापमान असलेल्या भट्टीत काम करू शकते, व्हॅक्यूममध्ये 2200°C.
वेफर प्रोसेस हीटर मटेरियलचे विशेष गुणधर्म आणि कमी वस्तुमान जलद गरम दर, एकसमान तापमान वितरण आणि नियंत्रणात उत्कृष्ट अचूकता देते. इतर सामग्रीच्या तुलनेत सिलिकॉन कार्बाइडचा पृष्ठभाग तापमानात जलद बदल असताना देखील कमी थर्मल विस्तारामुळे सपाट राहतो. सेमीकंडक्टर प्रोसेसिंग सिस्टीममध्ये मागणी असलेल्या प्रक्रियेसाठी हॉट प्लेट्स अतिशय योग्य आहेत.
Semicorex वर, आम्ही आमच्या ग्राहकांना उच्च-गुणवत्तेची, किफायतशीर उत्पादने पुरवण्यावर लक्ष केंद्रित करतो. आमच्या वेफर प्रोसेस हीटरला किंमतीचा फायदा आहे आणि तो अनेक युरोपियन आणि अमेरिकन मार्केटमध्ये निर्यात केला जातो. सातत्यपूर्ण दर्जेदार उत्पादने आणि अपवादात्मक ग्राहक सेवा वितरीत करून तुमचे दीर्घकालीन भागीदार बनण्याचे आमचे ध्येय आहे.

वेफर प्रोसेस हीटरचे पॅरामीटर्स

वेफर प्रोसेस हीटरची वैशिष्ट्ये

- सेवा जीवन सुधारण्यासाठी CVD SiC कोटिंग्ज.
- उच्च तापमान प्रतिकार, गंज प्रतिकार, दीर्घ सेवा आयुष्य, वेफर गुणवत्ता आणि उत्पन्न सुधारू शकते.
- यात थर्मल विस्तार, उच्च तापमान प्रतिरोध, उच्च पोशाख प्रतिरोध, चांगले इन्सुलेशन, चांगली रासायनिक स्थिरता आणि जवळ-जांभळा (लाल) दृश्यमान प्रकाश प्रवेश करणे अत्यंत कमी गुणांक आहे.

आम्ही अँटी-ऑक्सिडेशन आणि दीर्घ आयुष्य ग्रेफाइट क्रूसिबल, ग्रेफाइट मोल्ड आणि ग्रेफाइट हीटरचे सर्व भाग प्रदान करू शकतो.