Lan लन हीटर

सेमीकंडक्टरसाठी सेमीकोरेक्स एएलएन हीटर हे सेमीकंडक्टर मटेरियल हीटिंगसाठी वापरलेले एक डिव्हाइस आहे. हे मुख्यतः बनलेले आहेअ‍ॅल्युमिनियम नायट्राइड सिरेमिकसामग्री, उत्कृष्ट थर्मल चालकता आणि उच्च तापमान प्रतिकार आहे आणि उच्च तापमानात स्थिरपणे कार्य करू शकते. हीटर सामान्यत: हीटिंग घटक म्हणून प्रतिरोध वायर वापरते. उष्णतेसाठी प्रतिकार वायरला उर्जा देऊन, उष्णता अर्धसंवाहक सामग्रीची गरम करण्यासाठी हीटरच्या पृष्ठभागावर हस्तांतरित केली जाते. सेमीकंडक्टरसाठी एएलएन हीटर सेमीकंडक्टर उत्पादन प्रक्रियेमध्ये महत्त्वपूर्ण भूमिका बजावते आणि क्रिस्टल ग्रोथ, ne नीलिंग आणि बेकिंग यासारख्या प्रक्रियेत वापरली जाऊ शकते.

सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगच्या फ्रंट-एंड प्रक्रियेमध्ये (एफईओएल), वेफरवर विविध प्रक्रिया उपचार करणे आवश्यक आहे, विशेषत: वेफरला विशिष्ट तापमानात गरम करणे आणि तेथे कठोर आवश्यकता आहेत, कारण उत्पादनाच्या उत्पादनावर तापमानाच्या एकसमानतेचा एक महत्त्वाचा प्रभाव आहे; त्याच वेळी, सेमीकंडक्टर उपकरणे अशा वातावरणात देखील कार्य करणे आवश्यक आहे जेथे व्हॅक्यूम, प्लाझ्मा आणि रासायनिक वायू अस्तित्त्वात आहेत, ज्यासाठी सिरेमिक हीटर (सिरेमिक हीटर) वापरणे आवश्यक आहे. सिरेमिक हीटर हे सेमीकंडक्टर पातळ फिल्म जमा उपकरणांचे महत्त्वपूर्ण घटक आहेत. ते प्रोसेस चेंबरमध्ये वापरले जातात आणि वेफरला स्थिर आणि एकसमान प्रक्रिया तापमान मिळविण्यासाठी आणि उच्च सुस्पष्टतेसह वेफर पृष्ठभागावर पातळ चित्रपट तयार करण्यासाठी व्हेफरला वाहून नेण्यासाठी आणि सक्षम करण्यासाठी थेट वेफरशी संपर्क साधतात.

सिरेमिक हीटरसाठी पातळ फिल्म जमा उपकरणे सामान्यत: सिरेमिक सामग्रीवर आधारित वापरतातवंशजउच्च तापमानात गुंतल्यामुळे. अ‍ॅल्युमिनियम नायट्राइडमध्ये इलेक्ट्रिकल इन्सुलेशन आणि उत्कृष्ट थर्मल चालकता असते; याव्यतिरिक्त, त्याचे औष्णिक विस्तार गुणांक सिलिकॉनच्या जवळ आहे आणि त्यात उत्कृष्ट प्लाझ्मा प्रतिरोध आहे, ज्यामुळे तो अर्धसंवाहक डिव्हाइस घटक म्हणून वापरण्यासाठी योग्य आहे.

एएलएन हीटरमध्ये एक सिरेमिक बेस समाविष्ट आहे जो वेफर वाहून नेतो आणि एक दंडगोलाकार समर्थन बॉडी जो मागच्या बाजूला समर्थन देतो. सिरेमिक बेसच्या आत किंवा पृष्ठभागावर, हीटिंगसाठी प्रतिरोध घटक (हीटिंग लेयर) व्यतिरिक्त, आरएफ इलेक्ट्रोड (आरएफ लेयर) देखील आहे. जलद गरम आणि शीतकरण साध्य करण्यासाठी, सिरेमिक बेसची जाडी पातळ असावी, परंतु खूप पातळ देखील कडकपणा कमी करेल. एएलएन हीटर्सचे समर्थन शरीर सामान्यत: बेस प्रमाणेच थर्मल एक्सपेंशन गुणांक असलेल्या सामग्रीचे बनलेले असते, म्हणून समर्थन शरीर बहुतेक वेळा अ‍ॅल्युमिनियम नायट्राइडचे बनलेले असते. प्लाझ्मा आणि संक्षारक रासायनिक वायूंच्या परिणामापासून टर्मिनल आणि तारांचे संरक्षण करण्यासाठी एएलएन हीटर शाफ्ट (शाफ्ट) संयुक्त तळाशी एक अद्वितीय रचना स्वीकारतात. हीटरचे एकसारखे तापमान सुनिश्चित करण्यासाठी सपोर्ट बॉडीमध्ये उष्णता हस्तांतरण गॅस इनलेट आणि आउटलेट पाईप प्रदान केले जाते. बेस आणि सपोर्ट बॉडी रासायनिकदृष्ट्या बाँडिंग लेयरसह बंधनकारक आहे.

हीटर बेसमध्ये प्रतिरोध हीटिंग घटक पुरला जातो. हे सर्पिल किंवा कॉन्सेन्ट्रिक सर्किट सर्किट पॅटर्न तयार करण्यासाठी प्रवाहकीय पेस्ट (टंगस्टन, मोलिब्डेनम किंवा टँटलम) सह स्क्रीन प्रिंटिंगद्वारे तयार केले जाते. अर्थात, धातूचा वायर, मेटल जाळी, धातूचा फॉइल इत्यादी देखील वापरला जाऊ शकतो. स्क्रीन प्रिंटिंग पद्धत वापरताना, समान आकाराच्या दोन सिरेमिक प्लेट्स तयार केल्या जातात आणि त्यापैकी एकाच्या पृष्ठभागावर प्रवाहकीय पेस्ट लागू केली जाते. मग, प्रतिरोधक हीटिंग घटक तयार करणे हे sintered आहे आणि इतर सिरेमिक प्लेट बेसमध्ये दफन करण्यासाठी प्रतिरोधक हीटिंग घटकासह आच्छादित आहे.

अ‍ॅल्युमिनियम नायट्राइड सिरेमिक्सच्या थर्मल चालकतेवर परिणाम करणारे मुख्य घटक म्हणजे जाळी, ऑक्सिजन सामग्री, पावडर शुद्धता, मायक्रोस्ट्रक्चर इ. ची घनता आहे, ज्यामुळे अ‍ॅल्युमिनियम नायट्राइड सिरेमिक्सच्या थर्मल चालकतेवर परिणाम होईल.