गॅस वितरण प्लेट्स

सेमीकोरेक्स गॅस वितरण प्लेट्स प्रगत प्लाझ्मा एचिंग सिस्टममध्ये महत्त्वपूर्ण भूमिका बजावतात, विशेषत: सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगमध्ये जेथे सुस्पष्टता, एकसारखेपणा आणि दूषितता नियंत्रण सर्वोपरि आहे. आमची गॅस वितरण प्लेट, उच्च-शुद्धता रासायनिक वाष्प जमा सिलिकॉन कार्बाईडपासून अभियंता (सीव्हीडी sic), आधुनिक कोरड्या एचिंग प्रक्रियेच्या कठोर मागण्या पूर्ण करण्यासाठी डिझाइन केलेले आहे.

एचिंग प्रक्रियेदरम्यान, वेफर पृष्ठभागावर सुसंगत प्लाझ्मा वितरण सुनिश्चित करण्यासाठी रिअॅक्टिव्ह वायू नियंत्रित आणि एकसमान पद्धतीने चेंबरमध्ये सादर करणे आवश्यक आहे. गॅस वितरण प्लेट्स रणनीतिकदृष्ट्या वेफरच्या वर स्थित आहेत आणि ड्युअल फंक्शनची सेवा देतात: ते प्रथम प्रक्रिया वायूंना प्री-डिस्पर करते आणि नंतर ते इलेक्ट्रोड सिस्टमच्या दिशेने बारीक ट्यून केलेल्या चॅनेल आणि छिद्रांच्या मालिकेद्वारे निर्देशित करते. ही अचूक गॅस वितरण एकसमान प्लाझ्मा वैशिष्ट्ये आणि संपूर्ण वेफरमध्ये सुसंगत एच दर साध्य करण्यासाठी आवश्यक आहे.

प्रतिक्रियाशील गॅसच्या इंजेक्शन पद्धतीस अनुकूलित करून एचिंग एकरूपता आणखी सुधारली जाऊ शकते:

• अ‍ॅल्युमिनियम एचिंग चेंबर: रिअॅक्टिव्ह गॅस सामान्यत: वेफरच्या वर असलेल्या शॉवरहेडद्वारे वितरित केला जातो.

• सिलिकॉन एचिंग चेंबर: सुरुवातीला, गॅस वेफरच्या परिघातून इंजेक्शनने केले गेले आणि नंतर हळूहळू विकसित केले गेले आणि कोसिंग एकरूपता सुधारण्यासाठी वेफरच्या मध्यभागी इंजेक्शन दिले गेले.

गॅस वितरण प्लेट्स, ज्याला शॉवरहेड्स देखील म्हणतात, सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग प्रक्रियेमध्ये मोठ्या प्रमाणात वापरले जाणारे गॅस वितरण साधन आहे. हे मुख्यतः प्रतिक्रिया चेंबरमध्ये गॅस समान रीतीने वितरित करण्यासाठी वापरले जाते जेणेकरून प्रतिक्रिया प्रक्रियेदरम्यान सेमीकंडक्टर सामग्रीचा गॅसशी समान रीतीने संपर्क साधता येईल, उत्पादन कार्यक्षमता आणि उत्पादनाची गुणवत्ता सुधारणे. उत्पादनामध्ये उच्च सुस्पष्टता, उच्च स्वच्छता आणि एकाधिक-संसर्गजन्य पृष्ठभागाच्या उपचारांची वैशिष्ट्ये आहेत (जसे की सँडब्लास्टिंग/एनोडायझिंग/ब्रश निकेल प्लेटिंग/इलेक्ट्रोलाइटिक पॉलिशिंग इ.). गॅस वितरण प्लेट्स रिएक्शन चेंबरमध्ये स्थित आहेत आणि वेफर रिएक्शन वातावरणासाठी एकसमान जमा गॅस फिल्म लेयर प्रदान करतात. हे वेफर उत्पादनाचा मुख्य घटक आहे.

वेफर रिएक्शन प्रक्रियेदरम्यान, गॅस वितरण प्लेट्सची पृष्ठभाग दाटपणे मायक्रोपोरेसने (छिद्र 0.2-6 मिमी) व्यापलेली असते. तंतोतंत डिझाइन केलेल्या छिद्र रचना आणि गॅस मार्गाद्वारे, विशेष प्रक्रिया वायू एकसमान गॅस प्लेटवरील हजारो लहान छिद्रांमधून जाणे आवश्यक आहे आणि नंतर वेफर पृष्ठभागावर समान रीतीने जमा करणे आवश्यक आहे. वेफरच्या वेगवेगळ्या क्षेत्रातील फिल्म थरांना उच्च एकरूपता आणि सुसंगतता सुनिश्चित करणे आवश्यक आहे. म्हणूनच, स्वच्छता आणि गंज प्रतिकार करण्यासाठी अत्यंत उच्च आवश्यकतेव्यतिरिक्त, गॅस वितरण प्लेट्समध्ये एकसमान गॅस प्लेटवरील लहान छिद्रांच्या छिद्रांच्या सुसंगततेवर आणि लहान छिद्रांच्या आतील भिंतीवरील बुरुजची कठोर आवश्यकता असते. जर छिद्र आकार सहनशीलता आणि सुसंगतता मानक विचलन खूप मोठे असेल किंवा कोणत्याही आतील भिंतीवर बुरुज असतील तर जमा केलेल्या फिल्म लेयरची जाडी विसंगत असेल, ज्यामुळे उपकरणाच्या प्रक्रियेच्या उत्पन्नावर थेट परिणाम होईल. प्लाझ्मा-सहाय्य प्रक्रियेमध्ये (जसे की पीईसीव्हीडी आणि ड्राई एचिंग), शॉवर हेड, इलेक्ट्रोडचा भाग म्हणून, प्लाझ्माच्या एकसमान वितरणास प्रोत्साहित करण्यासाठी आरएफ वीज पुरवठ्याद्वारे एकसमान विद्युत क्षेत्र तयार करते, ज्यामुळे एचिंग किंवा डिपॉझिशनची एकसमानता सुधारते.

आमचीसीव्हीडी sicसेमीकंडक्टर फॅब्रिकेशन, एमईएमएस प्रक्रिया आणि प्रगत पॅकेजिंगमध्ये वापरल्या जाणार्‍या प्लाझ्मा एचिंग प्लॅटफॉर्मच्या विस्तृत श्रेणीसाठी गॅस वितरण प्लेट्स योग्य आहेत. परिमाण, भोक नमुने आणि पृष्ठभाग समाप्त यासह विशिष्ट साधन आवश्यकता पूर्ण करण्यासाठी सानुकूल डिझाइन विकसित केले जाऊ शकतात.

सीव्हीडी एसआयसीपासून बनविलेले सेमीकोरेक्स गॅस वितरण प्लेट्स आधुनिक प्लाझ्मा एचिंग सिस्टममध्ये एक महत्त्वपूर्ण घटक आहे, अपवादात्मक गॅस वितरण कामगिरी, थकबाकीदार सामग्री टिकाऊपणा आणि कमीतकमी दूषित होण्याचा धोका. त्याचा वापर थेट उच्च प्रक्रियेचे उत्पादन, कमी डिफेक्टिव्हिटी आणि दीर्घ टूल अपटाइममध्ये योगदान देते, जे अग्रगण्य अर्धसंवाहक उत्पादनासाठी एक विश्वासार्ह निवड बनते.