इलेक्ट्रोस्टॅटिक चक्स (ESCs) सेमीकंडक्टर उत्पादन आणि फ्लॅट पॅनेल डिस्प्ले उत्पादनामध्ये अपरिहार्य बनले आहेत, गंभीर प्रक्रियेच्या चरणांमध्ये नाजूक वेफर्स आणि सब्सट्रेट्स ठेवण्यासाठी आणि ठेवण्यासाठी नुकसान-मुक्त, अत्यंत नियंत्रणीय पद्धत ऑफर करतात. हा लेख ईएससी तंत्रज्ञानाच्या गुंतागुंतीचा शोध घेतो, त्......
पुढे वाचाजाड, उच्च-शुद्धता सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) स्तर, सामान्यत: 1mm पेक्षा जास्त, सेमीकंडक्टर फॅब्रिकेशन आणि एरोस्पेस तंत्रज्ञानासह विविध उच्च-मूल्य अनुप्रयोगांमध्ये महत्त्वपूर्ण घटक आहेत. हा लेख रासायनिक वाष्प निक्षेपण (CVD) प्रक्रियेत अशा स्तरांची निर्मिती, मुख्य प्रक्रिया मापदंड, भौतिक वैशिष्ट्ये आणि उद......
पुढे वाचाकेमिकल व्हेपर डिपॉझिशन (CVD) हे एक बहुमुखी पातळ-फिल्म डिपॉझिशन तंत्र आहे जे सेमीकंडक्टर उद्योगात विविध सब्सट्रेट्सवर उच्च-गुणवत्तेच्या, कॉन्फॉर्मल पातळ फिल्म्स बनवण्यासाठी मोठ्या प्रमाणावर वापरले जाते. या प्रक्रियेमध्ये तापलेल्या सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर वायूच्या पूर्ववर्तींच्या रासायनिक अभिक्रियां......
पुढे वाचाहा लेख सेमीकंडक्टर उद्योगातील क्वार्ट्ज बोटींच्या संबंधात सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) बोटींचा वापर आणि भविष्यातील प्रक्षेपणाचा तपशील देतो, विशेषत: सौर सेल निर्मितीमध्ये त्यांच्या अनुप्रयोगांवर लक्ष केंद्रित करतो.
पुढे वाचागॅलियम नायट्राइड (GaN) एपिटॅक्सियल वेफर वाढ ही एक जटिल प्रक्रिया आहे, बहुतेकदा दोन-चरण पद्धतीचा वापर केला जातो. या पद्धतीमध्ये उच्च-तापमान बेकिंग, बफर लेयरची वाढ, पुनर्स्थापना आणि ॲनिलिंग यासह अनेक गंभीर टप्प्यांचा समावेश आहे. या अवस्थेमध्ये तापमानावर बारकाईने नियंत्रण ठेवून, दोन-चरण वाढीची पद्धत जा......
पुढे वाचा