SiC सिरेमिक वेफर बोट्स

उच्च-तापमान आणि उच्च-गंज ऑपरेटिंग परिस्थितीत प्रक्रियेची स्थिरता आणि वेफरचे उत्पन्न सुनिश्चित करण्यासाठी विश्वसनीय आणि टिकाऊ वेफर बोट्स निवडणे महत्त्वपूर्ण आहे. सेमीकोरेक्सSiC सिरेमिकउच्च एकात्मता, उच्च स्थिरता, उच्च तापमान प्रतिरोध, पोशाख प्रतिरोध आणि दीर्घ सेवा आयुष्य यासह त्यांच्या अनेक फायद्यांवर प्रक्रिया करून वेफर बोट्स या हेतूंसाठी आदर्श पर्याय आहेत.

प्रीमियम कच्च्या मालाची निवड

सेमिकोरेक्सचे गुणवत्ता नियंत्रणSiC सिरेमिक वेफर बोट्सत्यांच्या कठोर कच्च्या मालाच्या निवडीपासून सुरुवात होते. Semicorex SiC सिरेमिक वेफर बोट्स उच्च-तापमान सिंटरिंगद्वारे उच्च-शुद्धतेच्या सेमीकंडक्टर-स्तरीय सिलिकॉन कार्बाइड पावडरपासून बनविल्या जातात. त्यांच्या प्रीमियम कच्च्या मालाबद्दल धन्यवाद, ते खालील अपवादात्मक कामगिरी देतात.

1. अति-उच्च शुद्धता, कमी धातूची अशुद्धता दूषित.

2. दाट सामग्रीची रचना, कण शेडिंगमुळे होणारे वेफरचे प्रदूषण कमी करते.

3. प्लाझ्मा, मजबूत ऍसिडस् आणि अल्कली विरुद्ध उत्कृष्ट गंज प्रतिकार.

4. उच्च कडकपणा आणि यांत्रिक शक्ती, पोशाख आणि स्क्रॅच प्रतिरोधक.

5. उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता, 1250 डिग्री सेल्सिअस तापमानात कोणतेही विकृत किंवा रेंगाळत नाही.

6. उत्कृष्ट थर्मल शॉक प्रतिरोध, जलद तापमान बदलांमुळे थर्मल ताण कमी करते.

विचारपूर्वक सानुकूलित डिझाइन

सेमीकोरेक्स SiC सिरेमिक वेफर बोट्स उद्योगातील अनेक आघाडीच्या भट्टी OEM, जसे की TEL, ASM आणि कोकुसाई इलेक्ट्रिकशी चांगल्या प्रकारे जुळतात. सेमीकोरेक्स आमच्या मौल्यवान ग्राहकांसाठी सानुकूल-इंजिनीयर्ड सोल्यूशन्स ऑफर करते, जे वेफर बोट परिमाणे, स्लॉट पिच, स्लॉट डेप्थ, स्लॉट प्रोफाइल (V-आकार किंवा U-आकार) आणि संबंधित कोनांचे कस्टमायझेशन आपल्या उपकरणे आणि प्रक्रिया आवश्यकतांशी परिपूर्ण सुसंगतता सक्षम करण्यासाठी समर्थन देते.

अचूक मशीनिंग अचूकता

प्रगत मशीनिंग उपकरणे आणि परिपक्व प्रक्रिया तंत्रज्ञानासह, सेमिकोरेक्स त्यांच्या SiC सिरॅमिक वेफर बोटींचे परिमाण आणि सहनशीलता कठोरपणे नियंत्रित करण्यास सक्षम आहेत. हे उच्च-परिशुद्धता मितीय नियंत्रण हे सुनिश्चित करते की सेमीकंडक्टर वेफर्स कार्यादरम्यान घट्टपणे स्थित आहेत, जे स्लिपेज किंवा टिल्टिंगमुळे वेफरचे नुकसान प्रभावीपणे प्रतिबंधित करते. अचूक मशीनिंग केल्यानंतर, SiC सिरॅमिक वेफर बोट्सचे समान अंतरावरील स्लॉट प्रत्येक वेफर गरम केले जाते आणि ऑक्सिडेशन, डिफ्यूजन आणि CVD प्रक्रियेदरम्यान एकसमान प्रतिक्रिया देते याची खात्री करू शकतात, जे प्रक्रियेची सुसंगतता आणि सेमीकंडक्टर चिप उत्पन्न सुधारण्यात मोठ्या प्रमाणात योगदान देते.