SiC डिफ्यूजन फर्नेस ट्यूब

उच्च फ्लेक्सरल स्ट्रेंथ: सेमिकोरेक्स SiC डिफ्यूजन फर्नेस ट्यूब 200MPa पेक्षा जास्त फ्लेक्सरल सामर्थ्य प्रदान करते, सेमीकंडक्टर उत्पादन प्रक्रियेच्या वैशिष्ट्यपूर्ण उच्च तणावाच्या परिस्थितीत अपवादात्मक यांत्रिक कार्यप्रदर्शन आणि संरचनात्मक अखंडता सुनिश्चित करते.

उत्कृष्ट ऑक्सिडेशन प्रतिरोध: या SiC डिफ्यूजन फर्नेस ट्यूब्स उत्कृष्ट ऑक्सिडेशन प्रतिरोध प्रदर्शित करतात, सर्व नॉन-ऑक्साइड सिरॅमिक्समध्ये सर्वोत्तम आहे. हे वैशिष्ट्य उच्च-तापमान वातावरणात दीर्घकालीन स्थिरता आणि कार्यप्रदर्शन सुनिश्चित करते, ऱ्हास होण्याचा धोका कमी करते आणि नळ्यांचे ऑपरेशनल आयुष्य वाढवते.

उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध: SiC डिफ्यूजन फर्नेस ट्यूबची रासायनिक जडत्व गंजला उत्कृष्ट प्रतिकार प्रदान करते, ज्यामुळे या नळ्या कठोर रासायनिक वातावरणात वापरण्यासाठी आदर्श बनतात ज्यांना अर्धसंवाहक प्रक्रियेत सामोरे जावे लागते.

उच्च पोशाख प्रतिरोध: SiC डिफ्यूजन फर्नेस ट्यूब परिधान करण्यासाठी अत्यंत प्रतिरोधक आहे, जी मितीय स्थिरता राखण्यासाठी आणि अपघर्षक परिस्थितीत दीर्घकाळापर्यंत देखभाल आवश्यकता कमी करण्यासाठी महत्त्वपूर्ण आहे.

कमी घर्षण गुणांक: SiC डिफ्यूजन फर्नेस ट्यूबचा कमी घर्षण गुणांक ट्यूब आणि वेफर्स दोन्हीवरील झीज कमी करतो, सुरळीत ऑपरेशन सुनिश्चित करतो आणि सेमीकंडक्टर प्रक्रियेदरम्यान दूषित होण्याचे धोके कमी करतो.

सुपीरियर उच्च-तापमान यांत्रिक गुणधर्म: SiC डिफ्यूजन फर्नेस ट्यूब ज्ञात सिरॅमिक सामग्रीमध्ये उत्कृष्ट उच्च-तापमान यांत्रिक गुणधर्म दर्शविते, ज्यामध्ये उत्कृष्ट शक्ती आणि क्रिप प्रतिरोध यांचा समावेश आहे. हे भारदस्त तापमानात दीर्घकालीन स्थिरता आवश्यक असलेल्या अनुप्रयोगांसाठी विशेषतः योग्य बनवते.

सीव्हीडी कोटिंगसह: सेमिकोरेक्स केमिकल व्हेपर डिपॉझिशन (सीव्हीडी) SiC कोटिंग 99.9995% पेक्षा जास्त शुद्धता पातळी गाठते, ज्यामध्ये 5ppm पेक्षा कमी अशुद्धता आणि 1ppm पेक्षा कमी हानिकारक धातूची अशुद्धता असते. CVD कोटिंग प्रक्रिया हे सुनिश्चित करते की ट्यूब्स 2-3Torr च्या कठोर व्हॅक्यूम घट्टपणाची आवश्यकता पूर्ण करतात, उच्च-परिशुद्धता सेमीकंडक्टर उत्पादन वातावरणासाठी आवश्यक आहे.

डिफ्यूजन फर्नेसेसमधील ऍप्लिकेशन: या SiC डिफ्यूजन फर्नेस ट्यूब्स विशेषतः डिफ्यूजन फर्नेसमध्ये वापरण्यासाठी डिझाइन केल्या आहेत, जेथे ते डोपिंग आणि ऑक्सिडेशन सारख्या उच्च-तापमान प्रक्रियांमध्ये महत्त्वपूर्ण भूमिका बजावतात. त्यांचे प्रगत भौतिक गुणधर्म हे सुनिश्चित करतात की ते या प्रक्रियेच्या मागणीच्या परिस्थितीचा सामना करू शकतात, ज्यामुळे सेमीकंडक्टर उत्पादनाची कार्यक्षमता आणि विश्वासार्हता वाढते.