SIC क्षैतिज फर्नेस ट्यूब

SIC क्षैतिज भट्टीच्या नळ्याहे फर्नेस सिस्टीमचे अपरिहार्य वाहक आहेत, जे सामान्यतः सेमीकंडक्टर उत्पादन किंवा फोटोव्होल्टेइक उत्पादन उपकरणांच्या कोर हीटिंग एरियामध्ये स्थित असतात. ते संपूर्ण भट्टी प्रणाली तयार करण्यासाठी गरम घटक, तापमान नियंत्रण प्रणाली, गॅस नियंत्रण प्रणाली आणि वेफर बोट्ससह एकत्रितपणे कार्य करतात.

वास्तविक ऑपरेशनमध्ये, SIC क्षैतिज भट्टीच्या नळ्या गरम घटकांद्वारे गरम केल्या जातात, जे सिलिकॉन कार्बाइड सामग्रीच्या उत्कृष्ट थर्मल चालकतेच्या मदतीने भट्टीच्या नळ्यांमध्ये समान रीतीने उष्णता हस्तांतरित करतात. दरम्यान, फर्नेस ट्यूबमध्ये विशिष्ट प्रक्रिया वायू (जसे की ऑक्सिजन, नायट्रोजन, डोपिंग वायू इ.) दाखल केले जातात. या उच्च-तापमान वायू वातावरणाच्या प्रभावाखाली, भट्टीतील अर्धसंवाहक सामग्री रासायनिक अभिक्रिया किंवा भौतिक बदलांना सामोरे जाईल, शेवटी भौतिक बदल, डोपिंग किंवा स्ट्रक्चरल ऑप्टिमायझेशन साध्य करेल.

Semicorex च्या SIC क्षैतिज भट्टी नळ्या उल्लेखनीय यांत्रिक सामर्थ्य आणि कडकपणा देतात, जे मोठ्या-व्हॉल्यूम वेफर हाताळणी आणि प्रक्रिया समाविष्ट असलेल्या अनुप्रयोगांमध्ये महत्त्वपूर्ण भूमिका बजावते. SIC क्षैतिज भट्टीच्या नळ्या ऑक्सिडेशन, डिफ्यूजन आणि ॲनिलिंग सारख्या उष्मा उपचार प्रक्रियेत वेफर्ससाठी स्थिर समर्थन प्रदान करण्यास सक्षम आहेत, उच्च-तापमान प्रक्रियेदरम्यान वेफर्स योग्य स्थितीत असल्याची खात्री करून आणि थर्मल तणावामुळे होणारे विस्थापन किंवा विकृती टाळतात.

Semicorex च्या SIC क्षैतिज भट्टीच्या नळ्या उच्च-शुद्धतेपासून तयार केल्या जातातसिलिकॉन कार्बाइड सिरेमिकअति-कमी अशुद्धता सामग्रीसह, त्यानंतर CVD जमा करणेसिलिकॉन कार्बाइड कोटिंगत्यांच्या पृष्ठभागावर. या उत्पादन पद्धतीमुळे SIC क्षैतिज फर्नेस ट्यूबमध्ये एक संरक्षणात्मक स्तर जोडला जातो, ज्यामुळे त्यांना वेळोवेळी मागणी असलेल्या उच्च-तापमान आणि संक्षारक वातावरणात स्थिरपणे कार्य करण्यास सक्षम करते. SIC क्षैतिज फर्नेस ट्यूब्सची ही गंज प्रतिरोधक कामगिरी गंज-संबंधित घटकांच्या नुकसानीचा धोका प्रभावीपणे कमी करून आणि वारंवार बदलण्याची आणि देखभाल करण्याची गरज कमी करून सेमीकंडक्टर वेफर उत्पादनाची कार्यक्षमता सुधारते.

अनेक उत्कृष्ट गुणधर्मांसह, Semicorex च्या SIC क्षैतिज भट्टीच्या नळ्या फोटोव्होल्टेईक आणि सेमीकंडक्टर उद्योगांमध्ये ऑक्सिडेशन प्रक्रिया, प्रसार प्रक्रिया, ॲनिलिंग प्रक्रिया आणि कमी दाबाची रासायनिक वाफ जमा करणे यासारख्या उच्च-तापमान प्रक्रिया प्रक्रियेत मोठ्या प्रमाणावर वापरल्या जातात.