SiC वेफर बोट वाहक

सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगच्या झपाट्याने विकसित होत असलेल्या लँडस्केपमध्ये-विशेषत: EVs, 5G इन्फ्रास्ट्रक्चर आणि नूतनीकरणक्षम उर्जेसाठी SiC आणि GaN पॉवर डिव्हाइसेसचे उत्पादन-तुमच्या वेफर हाताळणी हार्डवेअरची विश्वासार्हता गैर-विवादनीय आहे. सेमिकोरेक्स SiC वेफर बोट कॅरियर उच्च-तापमान, उच्च-शुद्धता वातावरणात पारंपारिक क्वार्ट्ज आणि ग्रेफाइट घटक पुनर्स्थित करण्यासाठी डिझाइन केलेले, मटेरियल इंजिनिअरिंगच्या शिखराचे प्रतिनिधित्व करते.

सिलिकॉन कार्बाइड ही उद्योगाची निवड का आहे

सेमीकंडक्टर नोड्स आकुंचन पावत असताना आणि वेफरचा आकार 200mm (8-इंच) च्या दिशेने बदलत असताना, क्वार्ट्जच्या थर्मल आणि रासायनिक मर्यादा एक अडथळा बनतात. आमची SiC वेफर बोट कॅरिअर वापरून इंजिनिअर केलेले आहेसिंटर्ड सिलिकॉन कार्बाइडकिंवा CVD-कोटेड SiC, थर्मल चालकता, यांत्रिक सामर्थ्य आणि रासायनिक जडत्व यांचे अद्वितीय संयोजन ऑफर करते.

1. अपवादात्मक थर्मल स्थिरता

पारंपारिक साहित्य अनेकदा "स्लम्पिंग" किंवा विकृतीमुळे ग्रस्त असतात जेव्हा प्रसार आणि ऍनिलिंगसाठी आवश्यक असलेल्या अति तापमानाच्या संपर्कात येतात. आमचे SiC वेफर बोट वाहक 1,600°C पेक्षा जास्त तापमानात संरचनात्मक अखंडता राखते. ही उच्च थर्मल स्थिरता सुनिश्चित करते की वेफर स्लॉट पूर्णपणे संरेखित राहतात, स्वयंचलित रोबोटिक हस्तांतरणादरम्यान वेफर "रॅटल" किंवा जॅमिंगला प्रतिबंधित करते.

2. उच्च शुद्धता आणि कमी प्रदूषण

स्वच्छ खोलीच्या वातावरणात, कण हे उत्पन्नाचे शत्रू असतात. आमचे बोट वाहक एक मालकीचे CVD (रासायनिक वाष्प निक्षेप) कोटिंग प्रक्रियेतून जातात. हे एक दाट, सच्छिद्र नसलेले पृष्ठभाग तयार करते जे अशुद्धतेच्या बाहेर जाण्यासाठी अडथळा म्हणून कार्य करते. अति-कमी धातूच्या अशुद्धतेच्या पातळीसह, आमचे वाहक हे सुनिश्चित करतात की तुमचे वेफर्स-मग सिलिकॉन असो किंवा सिलिकॉन कार्बाइड—गंभीर उच्च-उष्णतेच्या चक्रादरम्यान क्रॉस-दूषिततेपासून मुक्त राहतील.

3. जुळलेले CTE (थर्मल विस्ताराचे गुणांक)

वेफर तणाव आणि स्लिप लाईन्सच्या प्राथमिक कारणांपैकी एक म्हणजे वाहक आणि वेफरमधील थर्मल विस्तारामध्ये जुळत नाही. आमच्या SiC बोटी सीटीईने डिझाइन केल्या आहेत ज्या SiC वेफर्सशी जवळून जुळतात. हे सिंक्रोनाइझेशन जलद हीटिंग आणि कूलिंग फेज (RTP) दरम्यान यांत्रिक ताण कमी करते, एकंदर डाई उत्पादनात लक्षणीय सुधारणा करते.

मुख्य तांत्रिक तपशील

प्रगत फॅब्रिकेशनमधील अनुप्रयोग

आमची SiC वेफर बोट कॅरियर फॅबमधील सर्वात जास्त मागणी असलेल्या "हॉट झोन" प्रक्रियेसाठी अनुकूल आहे:

• LPCVD आणि PECVD: रासायनिक पूर्वसूचकांना उच्च प्रतिकार बोट खराब होण्यापासून प्रतिबंधित करते, एक सातत्यपूर्ण प्रक्रिया किटचे आयुष्य सुनिश्चित करते.
• उच्च-तापमान ऑक्सिडेशन: क्वार्ट्जच्या विपरीत, SiC हजारो चक्रांमध्ये त्याची ताकद टिकवून ठेवत, विचलन करत नाही.
• डिफ्यूजन आणि एनीलिंग: संपूर्ण बोटीवरील उत्कृष्ट थर्मल एकसमानता हे सुनिश्चित करते की बॅचमधील प्रत्येक वेफरला समान थर्मल प्रोफाइलचा अनुभव येतो.
• SiC Epitaxy: विशेषत: SiC सबस्ट्रेट्सवर एपिटॅक्सियल लेयर वाढवण्यासाठी आवश्यक असलेल्या कठोर वातावरणाचा सामना करण्यासाठी डिझाइन केलेले.

टिकाऊपणा किंमत-कार्यक्षमतेची पूर्तता करते

SiC हार्डवेअरमधील प्रारंभिक गुंतवणूक क्वार्ट्जपेक्षा जास्त असली तरी, एकूण मालकीची किंमत (TCO) लक्षणीयरीत्या कमी आहे. आमचे वाहक दीर्घायुष्यासाठी तयार केले जातात, बहुतेक वेळा पारंपारिक साहित्यापेक्षा 5 ते 10 पट जास्त काळ टिकतात. हे पार्ट्स बदलण्यासाठी टूल डाउनटाइमची वारंवारता कमी करते आणि आपत्तीजनक बोट बिघाड होण्याचा धोका कमी करते ज्यामुळे महागड्या वेफर्सची संपूर्ण बॅच नष्ट होऊ शकते.

सिद्ध अभियांत्रिकी आपल्या प्रक्रियेवर विश्वास ठेवा

आम्ही समजतो की सेमीकंडक्टर उद्योगात, "पुरेसे चांगले" कधीही पुरेसे नसते. आमच्या उत्पादन प्रक्रियेमध्ये व्हॅक्यूम पॅकेजिंगपूर्वी 100% CMM आयामी तपासणी आणि उच्च-शुद्धता अल्ट्रासोनिक साफसफाईचा समावेश आहे.

तुम्ही 200mm SiC पॉवर डिव्हाईस लाईन वाढवत असाल किंवा 150mm प्रक्रियेची लीगेसी ऑप्टिमाइझ करत असाल, आमची अभियांत्रिकी टीम तुमच्या विशिष्ट भट्टीच्या गरजा पूर्ण करण्यासाठी स्लॉट पिच, बोटची लांबी आणि कॉन्फिगरेशन हाताळण्यासाठी सानुकूलित करण्यासाठी उपलब्ध आहे.