सानुकूलित सच्छिद्र सिरेमिक चक

सानुकूलितसच्छिद्र सिरेमिक चकबेस आणि सच्छिद्र सिरेमिक प्लेटचा समावेश आहे. व्हॅक्यूम सिस्टमला जोडताना, वेफर आणि सिरॅमिकमधील हवा बाहेर काढून कमी-दाब वातावरण तयार केले जाते. व्हॅक्यूम निगेटिव्ह प्रेशरमध्ये, वेफर चकच्या पृष्ठभागावर घट्टपणे चिकटलेले असते, शेवटी सुरक्षित आणि स्थिर स्थिरीकरण आणि स्थिती प्राप्त करते.

सेमीकोरेक्स उच्च दर्जाच्या आणि वैयक्तिकृत सेवा प्रदान करताना आमच्या मूल्यवान ग्राहकांच्या मूलभूत गरजांना सातत्याने प्राधान्य देते. अंतिम सानुकूलित सच्छिद्र सिरेमिक चक विविध आकार आणि आकारांच्या वर्कपीसशी अखंडपणे जुळवून घेतात, ज्यामुळे उपकरणे कार्यक्षमतेत आणि उत्पादन स्थिरता प्रभावीपणे वाढवतात याची खात्री करण्यासाठी आम्ही पर्यायांची विविध निवड ऑफर करतो.

वैशिष्ट्ये:

अचूक-मशीन सानुकूलित सच्छिद्र सिरॅमिक चक वर्कपीसच्या पृष्ठभागावर एकसमान शोषण शक्ती वितरण प्रदान करते, असमान शक्तीच्या वापरामुळे वर्कपीसचे विकृतीकरण किंवा मशीनिंग अयोग्यता प्रभावीपणे प्रतिबंधित करते. शिवाय, त्याच्या मजबूत रासायनिक गंज प्रतिकार आणि अपवादात्मक उच्च-तापमान प्रतिरोधकतेमुळे धन्यवाद, सानुकूलित सच्छिद्र सिरॅमिक चक आव्हानात्मक आणि जटिल उत्पादन वातावरणात स्थिर दीर्घकालीन ऑपरेशन राखते.

अर्ज परिस्थिती:

1. सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग: वेफर प्रक्रिया जसे की वेफर थिनिंग, डायसिंग, ग्राइंडिंग, पॉलिशिंग; रासायनिक वाफ जमा करणे (CVD) आणि भौतिक वाष्प जमा करणे (PVD) प्रक्रिया; आयन रोपण.

2. फोटोव्होल्टेइक सेल मॅन्युफॅक्चरिंग: फोटोव्होल्टेइक सेलमध्ये सिलिकॉन वेफर डायसिंग, कोटिंग आणि पॅकेजिंग प्रक्रिया.

3. प्रिसिजन मशीनिंग: पातळ, नाजूक किंवा उच्च-परिशुद्धता वर्कपीस क्लॅम्पिंग आणि फिक्सिंग.