PSS प्रक्रियेसाठी ICP प्लाझ्मा एचिंग सिस्टम

PSS प्रक्रियेसाठी सेमिकोरेक्सची ICP प्लाझ्मा एचिंग सिस्टीम वेफर हाताळणी आणि पातळ फिल्म डिपॉझिशन प्रक्रियेसाठी उत्कृष्ट उष्णता आणि गंज प्रतिरोधक क्षमता प्रदान करते. आमचे उत्कृष्ट SiC क्रिस्टल कोटिंग एक स्वच्छ आणि गुळगुळीत पृष्ठभाग देते, जे मूळ वेफर्सची इष्टतम हाताळणी सुनिश्चित करते.

Semicorex वर, आम्ही आमच्या ग्राहकांना उच्च-गुणवत्तेची, किफायतशीर उत्पादने पुरवण्यावर लक्ष केंद्रित करतो. PSS प्रक्रियेसाठी आमची ICP प्लाझ्मा एचिंग सिस्टम किंमतीचा फायदा आहे आणि ती अनेक युरोपियन आणि अमेरिकन बाजारपेठांमध्ये निर्यात केली जाते. सातत्यपूर्ण दर्जेदार उत्पादने आणि अपवादात्मक ग्राहक सेवा वितरीत करून तुमचे दीर्घकालीन भागीदार बनण्याचे आमचे ध्येय आहे.

PSS प्रक्रियेसाठी आमच्या ICP प्लाझ्मा एचिंग सिस्टमबद्दल अधिक जाणून घेण्यासाठी आजच आमच्याशी संपर्क साधा.

PSS प्रक्रियेसाठी ICP प्लाझ्मा एचिंग सिस्टमचे पॅरामीटर्स

PSS प्रक्रियेसाठी ICP प्लाझ्मा एचिंग सिस्टमची वैशिष्ट्ये

- सोलणे टाळा आणि सर्व पृष्ठभागावर कोटिंग सुनिश्चित करा

उच्च तापमान ऑक्सिडेशन प्रतिरोध: 1600 डिग्री सेल्सियस पर्यंत उच्च तापमानात स्थिर

उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरीनेशन परिस्थितीत CVD रासायनिक वाष्प जमा करून बनविलेले.

गंज प्रतिकार: उच्च कडकपणा, दाट पृष्ठभाग आणि सूक्ष्म कण.

गंज प्रतिकार: आम्ल, अल्कली, मीठ आणि सेंद्रिय अभिकर्मक.

- सर्वोत्कृष्ट लॅमिनार वायू प्रवाह नमुना प्राप्त करा

- थर्मल प्रोफाइलच्या समानतेची हमी

- कोणतीही दूषितता किंवा अशुद्धता पसरवण्यास प्रतिबंध करा