प्रगत सेमीकंडक्टर उत्पादनामध्ये पातळ फिल्म डिपॉझिशन, फोटोलिथोग्राफी, एचिंग, आयन इम्प्लांटेशन, केमिकल मेकॅनिकल पॉलिशिंग यासह अनेक प्रक्रिया चरणांचा समावेश होतो. या प्रक्रियेदरम्यान, प्रक्रियेतील लहान त्रुटी देखील अंतिम सेमीकंडक्टर चिप्सच्या कार्यक्षमतेवर आणि विश्वासार्हतेवर हानिकारक प्रभाव पाडू शकतात......
पुढे वाचाउच्च-शुद्धता ग्रेफाइट प्लेट्स हे प्लेट-आकाराचे कार्बन पदार्थ आहेत ज्यामध्ये पेट्रोलियम कोक, पिच कोक किंवा उच्च-शुद्धता नैसर्गिक ग्रेफाइट यासारख्या उत्पादन प्रक्रियेच्या मालिकेद्वारे बनविलेले कच्च्या मालापासून बनवले जाते जसे की कॅल्सिनेशन, मळणे, फॉर्मिंग, बेकिंग, उच्च-तापमान ग्राफिटायझेशन (2800 ℃ वर)......
पुढे वाचाद्विमितीय साहित्य इलेक्ट्रॉनिक्स आणि फोटोनिक्समधील क्रांतिकारक प्रगतीचे आश्वासन देतात, परंतु बरेच आशावादी उमेदवार हवेच्या संपर्कात आल्यानंतर काही सेकंदातच क्षीण होतात, ज्यामुळे ते संशोधनासाठी किंवा व्यावहारिक तंत्रज्ञानामध्ये एकत्रीकरणासाठी अक्षरशः अयोग्य बनतात. ट्रान्झिशन मेटल डायहॅलाइड्स हा अत्यंत......
पुढे वाचाow प्रेशर केमिकल वाफ डिपॉझिशन (LPCVD) प्रक्रिया ही CVD तंत्रे आहेत जी कमी दाबाच्या वातावरणात वेफर पृष्ठभागांवर पातळ फिल्म सामग्री जमा करतात. सेमीकंडक्टर उत्पादन, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स आणि पातळ-फिल्म सोलर सेलसाठी मटेरियल डिपॉझिशन टेक्नॉलॉजीमध्ये LPCVD प्रक्रिया मोठ्या प्रमाणावर वापरल्या जातात.
पुढे वाचाटँटलम कार्बाइड (TaC) ही अति-उच्च तापमानाची सिरेमिक सामग्री आहे. अति-उच्च तापमान सिरॅमिक्स (UHTCs) साधारणपणे 3000℃ पेक्षा जास्त वितळणारे बिंदू असलेल्या आणि 2000℃ वरील उच्च-तापमान आणि संक्षारक वातावरणात (जसे की ऑक्सिजन अणू वातावरणात) वापरल्या जाणाऱ्या सिरॅमिक पदार्थांचा संदर्भ घेतात, जसे की ZrC, HfC, ......
पुढे वाचाकार्बन-सिरेमिक कंपोझिटने अलिकडच्या वर्षांत उच्च-श्रेणी उपकरणे उत्पादन क्षेत्रातील मागणीचे सर्वात वेगाने वाढणारे क्षेत्र पाहिले आहे. मूलत:, कार्बन-सिरेमिक कंपोझिट कार्बन फायबर-प्रबलित कार्बन मॅट्रिक्समध्ये सिलिकॉन सिलिसाइड सिरॅमिक फेज सादर करतात, रासायनिक वाफ जमा करणे किंवा लिक्विड-फेज रिॲक्शन सिंटरि......
पुढे वाचा