एपिटॅक्सियल प्रक्रियेत लोअर बाफल्ससाठी दुसरा अर्धा भाग

एपिटॅक्सियल प्रक्रियेतील लोअर बॅफल्ससाठी दुसऱ्या अर्ध्या भागांमध्ये विशिष्ट अर्ध-दंडगोलाकार आकार असतो, जो एपिटॅक्सियल अणुभट्टीमध्ये वायूचा प्रवाह अनुकूल करण्यासाठी रणनीतिकदृष्ट्या डिझाइन केलेला असतो. CVD SiC कोटिंगसह उच्च-गुणवत्तेच्या ग्रेफाइटपासून तयार केलेले, हे भाग अपवादात्मक टिकाऊपणा आणि थर्मल स्थिरतेची हमी देतात. सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगच्या कठोरतेला तोंड देण्यासाठी इंजिनिअर केलेले, ते तुमच्या उपकरणांच्या दीर्घायुष्य आणि विश्वासार्हतेमध्ये योगदान देतात.
एपिटॅक्सियल वाढ प्रक्रियेदरम्यान सामग्रीचे कार्यक्षम वितरण आणि जमा करणे सुनिश्चित करण्यासाठी, गॅस प्रवाह ऑप्टिमाइझ करण्यासाठी घटक जटिलपणे डिझाइन केलेले आहेत. याचा परिणाम सेमीकंडक्टर वेफर्सवर उच्च दर्जाचा दर्जा प्राप्त होतो.

अर्ज:

सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगमधील एपिटॅक्सियल रिअॅक्टर्ससाठी तयार.

अचूक आणि एकसमान एपिटॅक्सियल वाढ साध्य करण्यासाठी महत्त्वपूर्ण घटक.

एपिटॅक्सियल प्रक्रियेतील लोअर बॅफल्ससाठी आमच्या दुसऱ्या अर्ध्या भागांसह तुमची सेमीकंडक्टर उत्पादन क्षमता वाढवा. वर्धित टिकाऊपणासाठी CVD SiC सह लेपित आमच्या अर्ध-दंडगोलाकार घटकांच्या नावीन्यपूर्णतेवर आणि विश्वासार्हतेवर विश्वास ठेवा. या प्रगत फिटिंग्जसह सेमीकंडक्टर तंत्रज्ञानामध्ये आघाडीवर रहा, इष्टतम कार्यप्रदर्शन आणि सातत्यपूर्ण एपिटॅक्सियल लेयर गुणवत्ता सुनिश्चित करा. एपिटॅक्सियल प्रक्रियेत लोअर बाफल्ससाठी दुसरा अर्धा भाग निवडा-जेथे अचूकता प्रगतीची पूर्तता करते.