पीएसएस एचिंगसाठी एचिंग कॅरियर होल्डर

PSS Etching साठी Semicorex चे Etching Carrier Holder हे सर्वात जास्त मागणी असलेल्या एपिटॅक्सी उपकरणांच्या ऍप्लिकेशन्ससाठी इंजिनियर केलेले आहे. आमचे अल्ट्रा-प्युअर ग्रेफाइट वाहक कठोर वातावरण, उच्च तापमान आणि कठोर रासायनिक साफसफाईचा सामना करू शकतात. SiC लेपित वाहक उत्कृष्ट उष्णता वितरण गुणधर्म, उच्च थर्मल चालकता आणि किफायतशीर आहे. आमची उत्पादने बर्‍याच युरोपियन आणि अमेरिकन बाजारपेठांमध्ये मोठ्या प्रमाणावर वापरली जातात आणि आम्ही चीनमध्ये तुमचा दीर्घकालीन भागीदार बनण्यास उत्सुक आहोत.

चौकशी पाठवा

उत्पादन वर्णन

Semicorex वर, आम्ही PSS Etching साठी Etching Carrier Holder ची रचना विशेषतः epitaxial वाढ आणि वेफर हाताळणी प्रक्रियेसाठी आवश्यक असलेल्या कठोर वातावरणासाठी केली आहे. आमचा अल्ट्रा-प्युअर ग्रेफाइट वाहक MOCVD, एपिटॅक्सी ससेप्टर्स, पॅनकेक किंवा सॅटेलाइट प्लॅटफॉर्म आणि वेफर हाताळणी प्रक्रिया जसे की एचिंगसारख्या पातळ-फिल्म डिपॉझिशन टप्प्यांसाठी आदर्श आहे. SiC लेपित वाहक उच्च उष्णता आणि गंज प्रतिकार, उत्कृष्ट उष्णता वितरण गुणधर्म आणि उच्च थर्मल चालकता आहे. आमची उत्पादने किफायतशीर आहेत आणि किंमतीचा चांगला फायदा देतात.

PSS Etching साठी आमच्या Etching Carrier होल्डरबद्दल अधिक जाणून घेण्यासाठी आजच आमच्याशी संपर्क साधा.

PSS एचिंगसाठी एचिंग कॅरियर होल्डरचे पॅरामीटर्स

CVD-SIC कोटिंगची मुख्य वैशिष्ट्ये
SiC-CVD गुणधर्म
क्रिस्टल स्ट्रक्चर	FCC Î² फेज
घनता	g/cm ³	3.21
कडकपणा	विकर्स कडकपणा	2500
धान्य आकार	Î¼m	२~१०
रासायनिक शुद्धता	%	99.99995
उष्णता क्षमता	J·kg-1 ·K-1	640
उदात्तीकरण तापमान	℃	2700
फेलेक्सरल सामर्थ्य	MPa (RT 4-पॉइंट)	415
तरुणांचे मॉड्यूलस	Gpa (4pt बेंड, 1300â)	430
थर्मल विस्तार (C.T.E)	10-6K-1	4.5
औष्मिक प्रवाहकता	(W/mK)	300