वेफर प्रक्रियेसाठी PSS एचिंग कॅरियर ट्रे

सेमिकोरेक्सच्या वेफर प्रक्रियेसाठी PSS एचिंग कॅरियर ट्रे एपिटॅक्सियल वाढ आणि वेफर हाताळणी प्रक्रियेसाठी आवश्यक असलेल्या कठोर वातावरणासाठी तयार केली गेली आहे. आमचे अल्ट्रा-प्युअर ग्रेफाइट वाहक MOCVD आणि एपिटॅक्सी ससेप्टर्स, पॅनकेक किंवा सॅटेलाइट प्लॅटफॉर्म सारख्या पातळ-फिल्म डिपॉझिशन टप्प्यांमध्ये वेफर्सला समर्थन देण्यासाठी डिझाइन केलेले आहे. SiC लेपित वाहक उच्च उष्णता आणि गंज प्रतिकार, उत्कृष्ट उष्णता वितरण गुणधर्म आणि उच्च थर्मल चालकता आहे. आमची उत्पादने किफायतशीर आहेत आणि किंमतीचा चांगला फायदा देतात.

वेफर प्रोसेसिंगसाठी PSS एचिंग कॅरियर ट्रेचे पॅरामीटर्स

वेफर प्रक्रियेसाठी PSS एचिंग कॅरियर ट्रेची वैशिष्ट्ये

- सोलणे टाळा आणि सर्व पृष्ठभागावर कोटिंग सुनिश्चित करा

उच्च तापमान ऑक्सिडेशन प्रतिरोध: 1600 डिग्री सेल्सियस पर्यंत उच्च तापमानात स्थिर

उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरीनेशन परिस्थितीत CVD रासायनिक वाष्प जमा करून बनविलेले.

गंज प्रतिकार: उच्च कडकपणा, दाट पृष्ठभाग आणि सूक्ष्म कण.

गंज प्रतिकार: आम्ल, अल्कली, मीठ आणि सेंद्रिय अभिकर्मक.

- सर्वोत्कृष्ट लॅमिनार वायू प्रवाह नमुना प्राप्त करा

- थर्मल प्रोफाइलच्या समानतेची हमी

- कोणतीही दूषितता किंवा अशुद्धता पसरवण्यास प्रतिबंध करा