बातम्या

हाय-एंड इलेक्ट्रोस्टॅटिक चकसाठी पृष्ठभाग उपचार

इलेक्ट्रोस्टॅटिक चक सेमीकंडक्टर उत्पादन क्षेत्रात एकसमान इलेक्ट्रोस्टॅटिक डिस्चार्ज, उष्णता वाहक आणि वेफर शोषण आणि फिक्सेशन यासारखी अनेक कार्ये करते. उच्च व्हॅक्यूम, मजबूत प्लाझ्मा आणि विस्तृत तापमान श्रेणी यासारख्या अत्यंत ऑपरेटिंग परिस्थितीत वेफर्स स्थिरपणे शोषून घेणे हे ESC चे मुख्य कार्य आहे. त्......

डोपिंग प्रक्रिया म्हणजे काय?

अति-उच्च शुद्धता वेफर्सच्या निर्मितीमध्ये, सेमीकंडक्टरचे मूलभूत गुणधर्म सुनिश्चित करण्यासाठी वेफर्सने 99.999999999% पेक्षा जास्त शुद्धता मानक गाठले पाहिजे. विरोधाभास म्हणजे, एकात्मिक सर्किट्सचे कार्यात्मक बांधकाम साध्य करण्यासाठी, डोपिंग प्रक्रियेद्वारे वेफर्सच्या पृष्ठभागावर विशिष्ट अशुद्धता स्थानि......

सिरेमिक व्हॅक्यूम चक

सिरेमिक व्हॅक्यूम चक एकसमान छिद्र आकार वितरण आणि अंतर्गत आंतरकनेक्शनसह सच्छिद्र सिरेमिक सामग्रीपासून बनविलेले असतात. पीसल्यानंतर, पृष्ठभाग चांगल्या सपाटपणासह गुळगुळीत आणि नाजूक आहे. ते सिलिकॉन, नीलम आणि गॅलियम आर्सेनाइड सारख्या सेमीकंडक्टर वेफर्सच्या निर्मितीमध्ये मोठ्या प्रमाणावर वापरले जातात.

योग्य वेफर्स निवडताना कोणत्या निर्देशकांकडे लक्ष दिले पाहिजे?

सेमीकंडक्टर उपकरणांच्या विकास आणि उत्पादनावर वेफरच्या निवडीचा महत्त्वपूर्ण प्रभाव पडतो. वेफर निवड विशिष्ट अनुप्रयोग परिस्थितीच्या आवश्यकतांनुसार मार्गदर्शन केले पाहिजे आणि खालील महत्त्वपूर्ण मेट्रिक्स वापरून काळजीपूर्वक मूल्यांकन केले पाहिजे.

ड्राय एचिंगसाठी सिलिकॉन घटक

कोरडी कोरीव उपकरणे कोरीव कामासाठी कोणतेही ओले रसायन वापरत नाही. हे प्रामुख्याने लहान छिद्रांसह वरच्या इलेक्ट्रोडद्वारे चेंबरमध्ये वायूयुक्त नक्षीचा परिचय देते. वरच्या आणि खालच्या इलेक्ट्रोड्सद्वारे व्युत्पन्न होणारे विद्युत क्षेत्र वायूयुक्त इचेंटचे आयनीकरण करते, जे नंतर वेफरवर कोरल्या जाणाऱ्या सामग......

डमी, संशोधन, उत्पादन ग्रेड SiC सब्सट्रेट्समधील फरक