Sic कोटेड प्लेट

सेमीकोरेक्स एसआयसी कोटेड प्लेट एक अभियंता उच्च-कार्यक्षमता घटक आहे जो विशेषत: एपिटॅक्सियल (ईपीआय) वाढीच्या उपकरणांसाठी डिझाइन केलेला आहे, ज्याला उच्च-गुणवत्तेचे चित्रपट तयार करण्यासाठी स्थिर, उच्च-शुद्धता सब्सट्रेट्सची आवश्यकता असते. हे एक उच्च-सामर्थ्यवान ग्रेफाइट कोर आहे, एकसमान आणि सिलिकॉन कार्बाईड (एसआयसी) सह दाट लेपित आहे, जे एसआयसीच्या रासायनिक स्थिरता आणि पृष्ठभागाच्या टिकाऊपणासह उच्च-सामर्थ्य ग्रेफाइटची अतुलनीय थर्मल आणि यांत्रिक प्रतिरोधकता प्राप्त करते. सेमीकोरेक्स एसआयसी कोटेड प्लेट एसआयसी आणि जीएएनसह कंपाऊंड सेमीकंडक्टरसाठी एपिटॅक्सियल प्रक्रियेच्या अत्यंत कठोरतेसाठी टिकवून ठेवण्यासाठी तयार केली गेली आहे.

एसआयसी कोटेड प्लेटच्या ग्रेफाइट कोरमध्ये थर्मल चालकता, कमी घनता आणि उत्कृष्ट थर्मल शॉक प्रतिरोध आहे. उत्कृष्ट थर्मल चालकतेसह संतुलित ग्रेफाइट कोरचे माफक प्रमाणात कमी थर्मल वस्तुमान अशा प्रक्रियेत उष्णतेचे वेगवान वितरण करण्यास अनुमती देते जेथे तापमान चक्र उच्च वेगाने होते. रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी) द्वारे जमा केलेल्या एसआयसीचा बाह्य थर, एक संरक्षणात्मक अडथळा प्रदान करतो ज्यामुळे कडकपणा, गंज प्रतिकार आणि रासायनिक जडत्व वाढते, कण पिढी मर्यादित करण्यासाठी किंवा प्रतिबंधित करण्यासाठी त्वरित मूल्य प्रदान करते. ग्रॅफाइट बेसच्या भौतिक वैशिष्ट्यांसह एकत्रित केलेली ही घन मूलभूत पृष्ठभाग, एपिटॅक्सियल थरांवर दोष पिढीचा फारच कमी किंवा कोणताही धोका नसलेल्या अत्यंत उच्च शुद्धता प्रक्रियेच्या वातावरणाची हमी देते.

आयामी सुस्पष्टता आणि पृष्ठभाग सपाटपणा देखील एसआयसी लेपित प्लेटचे आवश्यक गुणधर्म आहेत. प्रक्रियेच्या कामगिरीमध्ये एकरूपता आणि पुनरावृत्तीपणा सुनिश्चित करण्यासाठी प्रत्येक प्लेट मशीनिंग आणि घट्ट सहिष्णुतेसह लेपित केली जाते. गुळगुळीत आणि जड पृष्ठभाग अवांछित चित्रपटाच्या जमा करण्यासाठी न्यूक्लियेशन साइट कमी करते आणि प्लेटच्या पृष्ठभागावर वेफर एकरूपता सुधारते.

एपिटॅक्सियल अणुभट्ट्यांमध्ये, एसआयसी लेपित प्लेट सामान्यत: एक संवेदनाक्षम, लाइनर किंवा थर्मल ढाल म्हणून अंमलात आणली जाते आणि वेफरवर प्रक्रिया केली जाणा to ्या उष्णतेचे हस्तांतरण माध्यम म्हणून कार्य करते. स्थिर कामगिरीमुळे क्रिस्टल गुणवत्ता, उत्पन्न आणि उत्पादकता थेट परिणाम होईल.