SiC-लेपित वेफर डिस्क

सेमिकोरेक्स SiC-कोटेड वेफर डिस्कच्या पायामध्ये उच्च-गुणवत्तेच्या ग्रेफाइटचा समावेश आहे, रासायनिक वाष्प डिपॉझिशन (CVD) SiC सह कुशलतेने लेपित. हे प्रगत बांधकाम थर्मल शॉक आणि रासायनिक अधःपतनासाठी अपवादात्मक प्रतिकार प्रदान करते, ज्यामुळे SiC-कोटेड वेफर डिस्कचे आयुष्य लक्षणीयरीत्या वाढते आणि संपूर्ण सेमीकंडक्टर फॅब्रिकेशन प्रक्रियेत विश्वसनीय कार्यप्रदर्शन सुनिश्चित होते.

उल्लेखनीय म्हणजे, SiC-कोटेड वेफर डिस्क थर्मल चालकतेमध्ये उत्कृष्ट आहे, जे सेमीकंडक्टर उत्पादनादरम्यान प्रभावी उष्णता नष्ट करण्यासाठी महत्त्वपूर्ण आहे. हे वैशिष्ट्य संपूर्ण वेफर पृष्ठभागावरील थर्मल ग्रेडियंट्स कमी करते, इच्छित सेमीकंडक्टर वैशिष्ट्ये साध्य करण्यासाठी आवश्यक समान तापमान वितरणास प्रोत्साहन देते.

SiC कोटिंग रासायनिक गंज आणि थर्मल शॉकपासून मजबूत संरक्षण देते, कठोर प्रक्रिया वातावरणातही SiC-कोटेड वेफर डिस्कची अखंडता राखते. या वर्धित टिकाऊपणाचा परिणाम दीर्घ ऑपरेशनल आयुर्मानात होतो आणि डाउनटाइम कमी होतो, ज्यामुळे सेमीकंडक्टर फॅब्रिकेशन सुविधांमध्ये उत्पादकता आणि किमतीची कार्यक्षमता वाढते.

शिवाय, SiC-कोटेड वेफर डिस्क विशिष्ट आवश्यकता आणि प्राधान्ये पूर्ण करण्यासाठी तयार केली जाऊ शकते. आम्ही आकार समायोजनापासून ते कोटिंगच्या जाडीतील फरकांपर्यंत सानुकूलित पर्याय प्रदान करतो, ज्यामुळे विविध ऍप्लिकेशन्स आणि प्रक्रिया पॅरामीटर्समध्ये कार्यप्रदर्शन ऑप्टिमाइझ करणाऱ्या डिझाइन लवचिकतेला अनुमती मिळते.