सेमीकोरेक्समधील एसआयसी एपिटॅक्सियल मॉड्यूल टिकाऊपणा, शुद्धता आणि अचूक अभियांत्रिकी एकत्र करते, जे एसआयसी एपिटॅक्सियल ग्रोथमध्ये एक महत्त्वपूर्ण घटक आहे. लेपित ग्रेफाइट सोल्यूशन्समध्ये अतुलनीय गुणवत्तेसाठी अर्धिकरण आणि मागणीच्या वातावरणात दीर्घकालीन कामगिरी करा.*
प्रीमियम ग्रेडपासून तयार केलेले सेमीकोरेक्स एसआयसी एपिटॅक्सियल मॉड्यूल, एसआयसी लेपित ग्रेफाइट, एपिटॅक्सियल उपकरणांचा एक भाग आहे जो सिलिकॉन कार्बाइड (एसआयसी) एपिटॅक्सी प्रक्रियेच्या सर्वात कठीण घटकांना प्रतिकार करण्यासाठी विकसित केला गेला आहे. हे मॉड्यूल, रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी) अनुप्रयोगांमध्ये उच्च तापमानासाठी, उच्च गुणवत्तेच्या एसआयसीच्या एपिटॅक्सियल वाढीदरम्यान वेफर्ससाठी स्थिरता आणि समर्थन दर्शविणारा एक महत्त्वपूर्ण घटक आहे. सेमीकोरेक्स एसआयसी मॉड्यूल दर्जेदार एसआयसी वैशिष्ट्यांसह सुसंगत एपिटॅक्सियल सामग्रीच्या विश्वासार्ह आणि पुनरावृत्ती करण्यायोग्य उत्पादनासाठी एक प्रभावी बेस सामग्री आहे.
सेमीकोरेक्स एसआयसी मॉड्यूल हा एक ग्रेफाइट सब्सट्रेट आहे जो सिलिकॉन कार्बाईड प्लेटिंगच्या दाट आणि एकसमान थराने व्यापलेला आहे आणि अगदी गंभीर प्रक्रियेच्या केमिस्ट्रीजमध्येही कण दूषित होण्यास आणि गंजला प्रतिरोधक आहे. एसआयसी कोटिंग अंतर्निहित ग्रेफाइटची दूषितता आणि इरोशन प्रतिबंधित करते आणि 1600 डिग्री सेल्सियस पर्यंत भरीव यांत्रिक समर्थन आणि संरक्षण प्रदान करते. एसआयसी मॉड्यूल सिलिकॉन कार्बाईडच्या एकूण पोशाख, गंज आणि रासायनिक प्रतिरोधक गुणधर्मांसह ग्रेफाइटची सामर्थ्य आणि यंत्रणा एकत्र करते, ज्यामुळे कठोर एपिटॅक्सियल वातावरणात टिकाऊपणाच्या दृष्टीने ते मॉड्यूलसाठी सर्वात योग्य आहे.
थर्मल सायकलिंग प्रक्रियेमध्ये आयामी बदल कमी करताना मॉड्यूल एकसमान थर्मल प्रोफाइल प्रदान करण्यासाठी डिझाइन केले गेले आहे. वेफर फ्लॅटनेस आणि एपिटॅक्सी एकरूपता राखण्यासाठी ही थर्मल एकरूपता आणि स्थिरता आवश्यक आहे. जर वेफरने उच्च थर्मल चालकता सह स्थिर स्थिती राखली असेल तर प्रक्रियेदरम्यान वेफरच्या ओलांडून थर्मल परिस्थिती एकसमान असेल, ज्यामुळे भाग, क्रिस्टल गुणवत्ता आणि भाग अपयश किंवा दूषित होण्याशी संबंधित डाउनटाइमवर सकारात्मक परिणाम होतो.
एसआयसी एपिटॅक्सियल मॉड्यूल हॉट-वॉल आणि कोल्ड-वॉलसह अनेक एपिटॅक्सियल अणुभट्ट्यांसह सुसंगत आहे आणि विशिष्ट अणुभट्टी लेआउट आणि ग्राहकांच्या गरजा भागविण्यासाठी आकार आणि परिमाणांसाठी सानुकूलित करण्याचा पर्याय आहे. एसआयसी एपिटॅक्सियल मॉड्यूल 4 इंच, 6 इंच आणि उदयोन्मुख 8 इंच एसआयसी एपिटॅक्सी अनुप्रयोगांसाठी योग्य आहे, परंतु मर्यादित नाही. एसआयसी एपिटॅक्सियल मॉड्यूलच्या उच्च शुद्धता आणि ऑप्टिमाइझ केलेल्या भूमितीमुळे, गॅस फ्लो डायनेमिक्स आणि थर्मल ग्रेडियंट्सवरील त्याच्या प्रभावामध्ये शारीरिक हस्तक्षेप कमी केला जातो जे एपिटॅक्सियल लेयरच्या अधिक नियंत्रित वाढीस समर्थन देतात.
सेमीकोरेक्सचे एसआयसी एपिटॅक्सियल मॉड्यूल विलक्षण असेंब्लीमधील उच्च गुणवत्तेच्या नियंत्रित तुकड्याचे प्रतिनिधित्व करतात. उच्च गुणवत्तेच्या नियंत्रण प्रोटोकॉल व्यतिरिक्त, सेमीकोरेक्स एकसमान, दाट आणि लो-आउटगॅसिंग एसआयसी चित्रपट लागू करण्यासाठी नवीनतम कोटिंग पद्धतींचा वापर करते. सेमीकोरेक्समध्ये उच्च कार्यक्षमता सिरेमिक कोटिंग्ज आणि ग्राफाइट मशीनिंग प्रक्रियेचे फायदे आहेत जे सर्वोत्तम संभाव्य उत्पादन जीवन, सुसंगतता आणि बॅचपासून बॅचपर्यंत प्रक्रिया स्थिरता प्रदान करतात.
एसआयसी पॉवर डिव्हाइसच्या वेगवान-विकसित क्षेत्रात, जेथे सामग्रीची गुणवत्ता थेट डिव्हाइसच्या कामगिरीवर परिणाम करते, एपिटॅक्सियल मॉड्यूल केवळ एक उपभोग्य नाही-हे एक गंभीर सक्षम आहे. सेमीकोरेक्स मधील एसआयसी लेपित ग्रेफाइट एपिटॅक्सियल मॉड्यूल कार्यक्षमता, उत्पन्न आणि एसआयसी एपिटॅक्सीमध्ये खर्च-प्रभावीपणाची मर्यादा ढकलण्याचा प्रयत्न करणा customers ्या ग्राहकांसाठी एक मजबूत, विश्वासार्ह समाधान प्रदान करते.